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1. (WO2009142222) METHOD FOR PRODUCING NOVEL SULFUR-CONTAINING ORGANOSILICON COMPOUND
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/142222    International Application No.:    PCT/JP2009/059240
Publication Date: 26.11.2009 International Filing Date: 20.05.2009
IPC:
C07F 7/18 (2006.01)
Applicants: DAISO CO., LTD. [JP/JP]; 12-18, Awaza 1-chome, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka 5500011 (JP) (For All Designated States Except US).
OOSUMI, Masahiko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YAMADA, Nobuo [JP/JP]; (JP) (For US Only).
ICHINO, Tomoyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NAKAMURA, Shoukichi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: OOSUMI, Masahiko; (JP).
YAMADA, Nobuo; (JP).
ICHINO, Tomoyuki; (JP).
NAKAMURA, Shoukichi; (JP)
Agent: HIBI, Norihiko; (JP)
Priority Data:
2008-132180 20.05.2008 JP
2008-132184 20.05.2008 JP
2008-221514 29.08.2008 JP
Title (EN) METHOD FOR PRODUCING NOVEL SULFUR-CONTAINING ORGANOSILICON COMPOUND
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D’UN NOUVEAU COMPOSÉ ORGANOSILICIQUE CONTENANT DU SOUFRE
(JA) 新規含硫黄有機珪素化合物の製造方法
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a low-cost method for obtaining a high-purity sulfur-containing organosilicon compound having a polysulfide structure.  A sulfur-containing silicon compound represented by formula [II] is obtained by performing a first reaction for uniformly mixing an alkali hydrosulfide, sulfur and an alkali hydroxide in the presence of water, then dehydrating the reaction mixture, and then sequentially adding a halogenoalkoxysilane represented by formula [I] into the resulting mixture in a polar solvent. (R1-O)n(R1)3-n-Si-R2-X     [I] (R1-O)n(R1)3-n-Si-R2-Sm-R2-Si-(R1)3-n(O-R1)n     [II] In the formulae, R1 represents a monovalent hydrocarbon group having 1-16 carbon atoms; R2 represents a divalent hydrocarbon group having 1-9 carbon atoms; X represents a halogen atom; n represents an integer of 1-3; and m represents an integer of 1-12.
(FR)La présente invention a pour objet un procédé à coût bas d’obtention d’un composé organosilicique contenant du soufre de pureté élevée ayant une structure de polysulfure. Il est obtenu un composé organosilicique contenant du soufre représenté par la formule [II] en effectuant une première réaction pour mélanger uniformément un hydrosulfure d’alcali, du soufre et un hydroxyde d’alcali en présence d’eau, en déshydratant ensuite le mélange réactionnelle et en ajoutant ensuite successivement un halogénoalcoxysilane représenté par la formule [I] dans le mélange résultant dans un solvant polaire. (R1-O)n(R1)3-n-Si-R2-X     [I] (R1-O)n(R1)3-n-Si-R2-Sm-R2-Si(R1)3-n(O-R1)n     [II] Dans les formules, R1 représente un groupe d’hydrocarbure monovalent comportant 1 à 16 atomes de carbone; R2 représente un groupe d’hydrocarbure bivalent comportant 1 à 9 atomes de carbone; X représente un atome d’halogène; n représente un nombre entier de 1 à 3; et m représente un nombre entier de 1 à 12.
(JA) 本発明は、安価な方法で、ポリスルフィド構造を有する高純度の含硫黄有機珪素化合物を得る方法を提供する。水存在下において、水硫化アルカリ、硫黄および水酸化アルカリを均一に混合する第一反応を行った後、反応混合物を脱水し、引続いて極性溶媒下にて下記式[I]のハロゲノアルコキシシランを添加することにより、下記式[II]の含硫黄珪素化合物を得る。式中、R1は炭素数1~16の一価の炭化水素基、R2は炭素数1~9の二価の炭化水素基、Xはハロゲン原子、nは1~3の整数、mは1~12の整数である。(R-O)(R3-n-Si-R-X……[I](R-O)(R3-n-Si-R-Sm-R-Si-(R3-n(O-R……[Ⅱ]
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)