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1. (WO2009142183) NOVEL COMPOUND, POLYMER AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/142183    International Application No.:    PCT/JP2009/059152
Publication Date: 26.11.2009 International Filing Date: 18.05.2009
IPC:
C08F 20/28 (2006.01), C07C 69/96 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: JSR Corporation [JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku Tokyo 1058640 (JP) (For All Designated States Except US).
SAKAKIBARA Hirokazu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NARUOKA Takehiko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SHIMIZU Makoto [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NISHIMURA Yukio [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MATSUMURA Nobuji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
ASANO Yuusuke [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SAKAKIBARA Hirokazu; (JP).
NARUOKA Takehiko; (JP).
SHIMIZU Makoto; (JP).
NISHIMURA Yukio; (JP).
MATSUMURA Nobuji; (JP).
ASANO Yuusuke; (JP)
Agent: KOJIMA Seiji; (JP)
Priority Data:
2008-131255 19.05.2008 JP
Title (EN) NOVEL COMPOUND, POLYMER AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION
(FR) NOUVEAU COMPOSÉ, POLYMÈRE, ET COMPOSITION RADIO-SENSIBLE
(JA) 新規化合物及び重合体並びに感放射線性組成物
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a radiation-sensitive composition having a large receding contact angle and less development defects, which provides a good pattern shape, while hardly dissolving into an immersion liquid during a liquid immersion exposure.  The radiation-sensitive composition contains a fluorine-containing polymer having a repeating unit (1) derived from a compound represented by general formula (1), and a solvent. (In general formula (1), R1 represents a methyl group or the like; R2 represents a 1-methylethylene group or the like; R3's independently represent an alkyl group having 1-4 carbon atoms, or the like; and X represents a fluoroalkylene group having 1-20 carbon atoms.)
(FR)La présente invention concerne une composition radio-sensible qui présente un grand angle de contact sortant et moins de défauts de développement, et qui fournit une bonne forme de motif tout en se dissolvant à peine dans un liquide d’immersion durant une exposition par immersion dans un liquide. Ladite composition radio-sensible contient un polymère comportant du fluor qui présente une unité de répétition (1) dérivée d’un composé représenté par la formule générale (1), et un solvant. (Dans la formule générale (1), R1 représente un groupe méthyle ou analogue ; R2 représente un groupe 1-méthyléthylène ou analogue ; R3 représente indépendamment un groupe alkyle avec 1 à 4 atomes de carbone, ou analogue ; et X représente un groupe fluoroalkylène avec 1 à 20 atomes de carbone.)
(JA) 本発明の目的は、得られるパターン形状が良好であり、液浸露光時に液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、後退接触角が大きく、且つ現像欠陥が少ない感放射線性組成物を提供することである。本発明の感放射線性組成物は、下記一般式(1)で表される化合物に由来する繰り返し単位(1)を有するフッ素含有重合体と、溶剤とを含有する。 (一般式(1)中、Rはメチル基等を示し、Rは、1-メチルエチレン基等を示し、Rは相互に独立に、炭素数1~4のアルキル基等を示し、Xは、炭素数1~20のフルオロアルキレン基を示す。)
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)