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1. (WO2009142181) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE, POLYMER AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/142181    International Application No.:    PCT/JP2009/059150
Publication Date: 26.11.2009 International Filing Date: 18.05.2009
IPC:
C08F 20/28 (2006.01), C07C 69/96 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: JSR Corporation [JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku Tokyo 1058640 (JP) (For All Designated States Except US).
MATSUMURA Nobuji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SOYANO Akimasa [JP/JP]; (JP) (For US Only).
ASANO Yuusuke [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NARUOKA Takehiko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SAKAKIBARA Hirokazu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SHIMIZU Makoto [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NISHIMURA Yukio [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MATSUMURA Nobuji; (JP).
SOYANO Akimasa; (JP).
ASANO Yuusuke; (JP).
NARUOKA Takehiko; (JP).
SAKAKIBARA Hirokazu; (JP).
SHIMIZU Makoto; (JP).
NISHIMURA Yukio; (JP)
Agent: KOJIMA Seiji; (JP)
Priority Data:
2008-131255 19.05.2008 JP
2009-075039 25.03.2009 JP
Title (EN) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE, POLYMER AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE RADIO-SENSIBLE POUR EXPOSITION PAR IMMERSION DANS UN LIQUIDE, POLYMÈRE, ET PROCÉDÉ DE FORMATION D’UN MOTIF DE RÉSERVE
(JA) 液浸露光用感放射線性樹脂組成物、重合体及びレジストパターン形成方法
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a radiation-sensitive resin composition for liquid immersion exposure, which has high transparency to radiation, excellent basic properties for resists such as sensitivity and excellent minimum collapse dimensions (collapse), and improves variations in the pattern shape during a liquid immersion exposure process.  A polymer and a method for forming a resist pattern are also disclosed.  The radiation-sensitive resin composition for liquid immersion exposure contains (A) a resin component, (B) a radiation-sensitive acid generator and (C) a solvent.  The resin component (A) contains more than 50% by mass of an acid-cleavable group-containing resin (A1) containing a repeating unit (a1) having a fluorine atom and an acid-cleavable group in a side chain, when the resin component (A) is taken as 100% by mass.
(FR)La présente invention concerne une composition de résine radio-sensible pour exposition par immersion dans un liquide. Ladite composition présente une transparence aux radiations élevée, d’excellentes propriétés de base pour des réserves, telles que la sensibilité, et d’excellentes dimensions de rupture minimale (rupture). En outre, elle améliore les variations de la forme du motif durant le processus d’exposition par immersion dans un liquide. L’invention porte également sur un polymère et sur un procédé de formation d’un motif de réserve. La composition de résine radio-sensible pour exposition par immersion dans un liquide contient (A) un composant de résine, (B) un générateur d’acide radio-sensible et (C) un solvant. Le composant de résine (A) renferme plus de 50 % en poids d’une résine contenant un groupe scindable par l’acide (A1), qui comporte une unité de répétition (a1) avec un atome de fluor et un groupe scindable par l’acide dans une chaîne latérale, 100 % en poids du composant de résine (A) étant pris en compte.
(JA) 本発明の目的は、放射線に対する透明性が高く、感度等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、最小倒壊寸法(倒れ)に優れており、且つ液浸露光プロセスにおけるパターン形状のバラツキが改善された液浸露光用感放射線性樹脂組成物、重合体及びレジストパターン形成方法を提供することである。本発明の液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、(A)樹脂成分と、(B)感放射線性酸発生剤と、(C)溶剤と、を含有するものであって、(A)樹脂成分は、該(A)樹脂成分を100質量%とした場合に、側鎖にフッ素原子と酸解離性基とを有する繰り返し単位(a1)を含有する酸解離性基含有樹脂(A1)を、50質量%を超えて含有する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)