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1. (WO2009142142) ALICYCLIC STRUCTURE-CONTAINING COMPOUND, (METH)ACRYLATE, (METH)ACRYLIC POLYMER AND POSITIVE RESIST COMPOSITION CONTAINING THE (METH)ACRYLIC POLYMER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/142142    International Application No.:    PCT/JP2009/059011
Publication Date: 26.11.2009 International Filing Date: 14.05.2009
IPC:
C07C 69/63 (2006.01), C07C 67/10 (2006.01), C07C 69/54 (2006.01), C08F 20/28 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: IDEMITSU KOSAN CO.,LTD. [JP/JP]; 1-1, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008321 (JP) (For All Designated States Except US).
TANAKA, Shinji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
FUKUSHIMA, Kazuya [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KAWANO, Naoya [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: TANAKA, Shinji; (JP).
FUKUSHIMA, Kazuya; (JP).
KAWANO, Naoya; (JP)
Agent: OHTANI, Tamotsu; (JP)
Priority Data:
2008-135927 23.05.2008 JP
Title (EN) ALICYCLIC STRUCTURE-CONTAINING COMPOUND, (METH)ACRYLATE, (METH)ACRYLIC POLYMER AND POSITIVE RESIST COMPOSITION CONTAINING THE (METH)ACRYLIC POLYMER
(FR) COMPOSÉ CONTENANT UNE STRUCTURE ALICYCLIQUE, (MÉTH)ACRYLATE, POLYMÈRE (MÉTH)ACRYLIQUE ET COMPOSITION DE RÉSIST POSITIF CONTENANT LE POLYMÈRE (MÉTH)ACRYLIQUE
(JA) 脂環構造含有化合物、(メタ)アクリル酸エステル類、(メタ)アクリル系重合体並びにそれを含むポジ型レジスト組成物
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is an alicyclic structure-containing compound represented by the following general formula (I):       R1-L-X      (I) (wherein R1 represents an alicyclic structure-containing group having 5-20 carbon atoms, which is represented by general formula (i) disclosed in the description; L represents a linking group having an ester bond and an ether bond, which is represented by general formula (ii) disclosed in the description; and X represents a halogen atom or a hydroxyl group), which is useful as a raw material for a monomer for photoresists to be used in semiconductor device production or such a monomer.  The alicyclic structure-containing compound has excellent exposure sensitivity, solubility, compatibility, defect reduction, roughness improvement and the like.  Also disclosed are a (meth)acrylate represented by general formula (II) (wherein R1 and L are as defined for the alicyclic structure-containing compound and R8 represents a hydrogen or the like), which is derived from the alicyclic structure-containing compound, a method for producing the (meth)acrylate, a (meth)acrylic polymer containing a monomer unit derived from the (meth)acrylate, and a positive resist composition.
(FR)L’invention concerne un composé contenant une structure alicyclique représenté par la formule générale (I) suivante :       R1-L-X      (I) (dans laquelle R1 représente un groupe contenant une structure alicyclique ayant 5 à 20 atomes de carbone, qui est représenté par la formule générale (i) décrite dans la description; L représente un groupe de liaison ayant une liaison ester et une liaison éther, qui est représenté par la formule générale (ii) décrite dans la description; et X représente un atome d’halogène ou un groupe hydroxyle), qui est utile en tant que matière première pour un monomère pour photorésists destinés à être utilisés dans la production de dispositifs semi-conducteurs ou un tel monomère. Le composé contenant une structure alicyclique présente d’excellentes sensibilité à l’exposition, solubilité, compatibilité, réduction des défauts, amélioration de la rugosité et analogues. L’invention concerne également un (méth)acrylate représenté par la formule générale (II) (dans laquelle R1 et L sont tels que définis pour le composé contenant une structure alicyclique et R8 représente un hydrogène ou analogue), qui est dérivé du composé contenant une structure alicyclique, un procédé de production du (méth)acrylate, un polymère (méth)acrylique contenant une unité monomère dérivée du (méth)acrylate, et une composition de résist positif.
(JA) 半導体装置製造に用いられるフォトレジスト用モノマー原料や該モノマーなどとして有用な、露光感度、溶解性、相溶性、ディフェクト低減、ラフネス改善等に優れた一般式(I): R-L-X(I) (式中Rは明細書中記載の一般式(i)で示される炭素数5~20の脂環構造含有基、Lは明細書中記載の一般式(ii)で示されるエステル結合及びエーテル結合を有する連結基、Xはハロゲン原子又は水酸基である。)で表される脂環構造含有化合物、該脂環構造含有化合物から誘導される一般式(II): (式中R、Lは脂環構造含有化合物と同じ、Rは水素等である。)で表される(メタ)アクリル酸エステル類及びその製造方法、該(メタ)アクリル酸エステル類に基づく単量体単位を含む(メタ)アクリル系重合体並びにポジ型レジスト組成物を提供する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)