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1. (WO2009142138) PLASMA PROCESSING APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/142138    International Application No.:    PCT/JP2009/058995
Publication Date: 26.11.2009 International Filing Date: 14.05.2009
IPC:
H05H 1/46 (2006.01), C23C 16/509 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01)
Applicants: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (For All Designated States Except US).
KISHIMOTO, Katsushi; (For US Only).
FUKUOKA, Yusuke; (For US Only)
Inventors: KISHIMOTO, Katsushi; .
FUKUOKA, Yusuke;
Agent: NOGAWA, Shintaro; Nogawa Patent Office, Nishitenma Five Bldg., 16-3, Nishitenma 5-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300047 (JP)
Priority Data:
2008-133073 21.05.2008 JP
Title (EN) PLASMA PROCESSING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT PAR PLASMA
(JA) プラズマ処理装置
Abstract: front page image
(EN)A plasma processing apparatus is provided with a reaction chamber; a gas introducing section for introducing a reaction gas into the reaction chamber; an air release section for releasing the reaction gas from the reaction chamber; three or more pairs of electric discharge sections, each pair of which is composed of a first electrode and a second electrode, arranged to face each other in the reaction chamber and perform plasma discharge in the reaction gas; a supporting section which horizontally or vertically supports the first electrode and the second electrode in parallel; and a power supply section for supplying all the pairs of electric discharge sections with power.  The power supply section is provided with high frequency generator, and an amplifier which amplifies high frequency power supplied from the high frequency generator and supplies the first electrode with the amplified power.  In the electric discharge section, the first electrode of one electric discharge section and that of other electric discharge section adjacent to the electric discharge section are connected to the same high frequency generator through individual amplifiers or connected to different high frequency generators through the amplifiers, and the second electrodes in the electric discharge sections are grounded, respectively.
(FR)Appareil de traitement par plasma, comprenant une chambre de réaction ; une partie d’introduction de gaz destinée à introduire un gaz de réaction dans la chambre de réaction ; une partie d’évacuation d’air destinée à évacuer le gaz de réaction de la chambre de réaction ; au moins trois paires de parties de décharge électrique, chaque paire étant composée d’une première électrode et d’une deuxième électrode agencées en regard l’une de l’autre dans la chambre de réaction et produisant une décharge de plasma dans le gaz de réaction ; une partie de maintien destinée à maintenir les première et deuxième électrodes parallèles horizontalement ou verticalement ; et une partie d’alimentation en courant destinée à alimenter en courant toutes les paires de parties de décharge électrique. La partie d’alimentation est dotée d’un générateur haute fréquence et d’un amplificateur qui amplifie le courant haute fréquence fourni par le générateur haute fréquence et alimente la première électrode en courant amplifié. Parmi les parties de décharge électrique, la première électrode d’une partie de décharge électrique et celle d’une autre partie de décharge électrique adjacente sont reliées au même générateur haute fréquence par l’intermédiaire d’amplificateurs respectifs ou reliées à des générateurs haute fréquence différents par l’intermédiaire des amplificateurs, et les deuxièmes électrodes des parties de décharge électrique sont mises à la masse.
(JA) 反応室と、反応室に反応ガスを導入するガス導入部と、反応室から反応ガスを排気する排気部と、反応室内に対向状に配置されかつ反応ガス中でプラズマ放電させる第1電極と第2電極の組からなる3組以上の放電部と、各組の前記第1電極および前記第2電極を水平状または垂直状に支持しかつ並列させる支持部と、全組の放電部に電力を供給する電源部とを備え、前記電源部は、高周波発生器と、該高周波発生器からの高周波電力を増幅して第1電極に供給する増幅器とを備えてなり、前記放電部は、一の放電部の第1電極と、その放電部に隣接する他の放電部の第1電極とが、同一の高周波発生器に個別の増幅器を介して接続されるか、或いは異なる高周波発生器に増幅器を介して接続され、各放電部中の第2電極がそれぞれ接地されるプラズマ処理装置。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)