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1. (WO2009141984) METAL COMPOUND, POLYMERIZABLE COMPOSITION CONTAINING THE SAME, RESIN, METHOD FOR PRODUCING THE RESIN AND USE OF THE RESIN
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/141984    International Application No.:    PCT/JP2009/002139
Publication Date: 26.11.2009 International Filing Date: 15.05.2009
IPC:
C07C 323/52 (2006.01), C07D 331/04 (2006.01), C08G 75/06 (2006.01), G02B 1/04 (2006.01), C07F 3/00 (2006.01), C07F 5/00 (2006.01)
Applicants: MITSUI CHEMICALS, INC. [JP/JP]; 5-2, Higashi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1057117 (JP) (For All Designated States Except US).
MURAKAMI, Masakazu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TAKASHINA, Mamoru [JP/JP]; (JP) (For US Only).
ANDO, Tomoyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KOBAYASHI, Seiichi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MURAKAMI, Masakazu; (JP).
TAKASHINA, Mamoru; (JP).
ANDO, Tomoyuki; (JP).
KOBAYASHI, Seiichi; (JP)
Agent: HAYAMI, Shinji; (JP)
Priority Data:
2008-130453 19.05.2008 JP
2008-199521 01.08.2008 JP
Title (EN) METAL COMPOUND, POLYMERIZABLE COMPOSITION CONTAINING THE SAME, RESIN, METHOD FOR PRODUCING THE RESIN AND USE OF THE RESIN
(FR) COMPOSÉ MÉTALLIQUE, COMPOSITION POLYMÉRISABLE LE CONTENANT, RÉSINE, PROCÉDÉ POUR LA FABRICATION DE LA RÉSINE ET UTILISATION DE LA RÉSINE
(JA) 金属化合物、これを含む重合性組成物、樹脂およびその製造方法ならびに使用
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a metal compound represented by general formula (0). (In general formula (0), A represents a thietane ring or a monovalent group containing a thiol group; B represents a divalent group containing a heteroatom; R2 represents a divalent organic group; n represents the valence of M; p represents an integer not less than 1 but not more than n; M represents a lanthanoid atom or a Ba atom when A is a thietane ring, and M represents a lanthanoid atom when A is a monovalent group containing a thiol group; and Y represents a monovalent inorganic or organic group.  When n - p is not less than 2, a plurality of Y's independently represent a monovalent inorganic or organic group, or alternatively, the plurality of Y's may combine together to form a ring containing M.)
(FR)L'invention porte sur un composé métallique représenté par la formule générale (0). (Dans la formule générale (0), A représente un noyau thiétane ou un groupe monovalent contenant un groupe thiol ; B représente un groupe divalent contenant un hétéroatome ; R2 représente un groupe organique divalent ; n représente la valence de M ; p représente un entier de pas moins de 1 mais pas plus de n ; M représente un atome lanthanide ou un atome de Ba lorsque A est un noyau thiétane et M représente un atome lanthanide lorsque A est un groupe monovalent contenant un groupe thiol ; et Y représente un groupe inorganique ou organique monovalent. Lorsque n - p n'est pas inférieur à 2, une pluralité des Y représentent chacun indépendamment un groupe inorganique ou organique monovalent ou, dans une variante, la pluralité des Y peuvent se combiner ensemble pour former un noyau contenant M.)
(JA) 金属化合物は、下記一般式(0)で示される。 (上記一般式(0)中、Aは、チエタン環あるいは、チオール基を含む1価の基である。Bは、ヘテロ原子を含む2価の基であり、R2は2価の有機基である。  nは、Mの価数であり、pは、1以上、n以下の整数である。Mは、Aがチエタン環の場合、ランタノイド原子またはBa原子であり、Aがチオール基を含む1価の基である場合、ランタノイド原子である。  Yは1価の無機または有機基である。n-pが2以上の場合、複数のYは、各々独立に1価の無機または有機基である。n-pが2以上の場合、複数のYが互いに結合し、Mを含む環を形成していてもよい。)
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)