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1. (WO2009141978) LIQUID DISCHARGE HEAD AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/141978    International Application No.:    PCT/JP2009/002115
Publication Date: 26.11.2009 International Filing Date: 14.05.2009
IPC:
B41J 2/175 (2006.01)
Applicants: CANON KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 30-2, Shimomaruko 3-chome, Ohta-ku, Tokyo 1468501 (JP) (For All Designated States Except US).
MORITA, Osamu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KITABATAKE, Kenji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OIKAWA, Satoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MORITA, Osamu; (JP).
KITABATAKE, Kenji; (JP).
OIKAWA, Satoshi; (JP)
Agent: ABE Takuma; C/O CANON KABUSHIKI KAISHA 30-2, Shimomaruko 3-chome, Ohta-ku, Tokyo 1468501 (JP)
Priority Data:
2008-130762 19.05.2008 JP
2009-107880 27.04.2009 JP
Title (EN) LIQUID DISCHARGE HEAD AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
(FR) TÊTE DE DÉCHARGE DE LIQUIDE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Abstract: front page image
(EN)A liquid discharge head includes a liquid discharge substrate (H1101) including a discharge port (H1107); a flow path for supplying liquid to the liquid discharge substrate; an absorption member (311) capable of absorbing a laser beam, wherein a first flow path portion (229) constituting a portion of a wall of the flow path is formed on a surface thereof; and a transparent member (220) transparent to a laser beam, wherein a second flow path portion (239) constituting another portion of the wall of the flow path is formed on a surface thereof; wherein the flow path is formed by welding the surfaces of the absorption and transparent members with each other at a periphery, of the first flow path portion using a laser beam, and wherein the second flow path portion is constituted by a depression including an inclined surface (226) capable of reflecting a laser beam directed toward the first flow path portion.
(FR)L'invention porte sur une tête de décharge de liquide, qui comprend un substrat de décharge de liquide (H1101) comprenant un orifice de décharge (H1107); un trajet d'écoulement pour délivrer un liquide au substrat de décharge de liquide; un élément d'absorption (311) capable d'absorber un faisceau laser, une première partie de trajet d'écoulement (229) constituant une partie d'une paroi du trajet d'écoulement étant formée sur une surface de celui-ci; et un élément transparent (220) transparent à un faisceau laser, une deuxième partie de trajet d'écoulement (239) constituant une autre partie de la paroi du trajet d'écoulement étant formée sur une surface de celui-ci; le trajet d'écoulement étant formé par soudage des surfaces des éléments d'absorption et transparent entre-elles au niveau d'une périphérie de la première partie de trajet d'écoulement à l'aide d'un faisceau laser, et la deuxième partie de trajet d'écoulement étant constituée par une cavité comprenant une surface inclinée (226) capable de réfléchir un faisceau laser dirigé vers la première partie de trajet d'écoulement.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)