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1. (WO2009140371) METHOD AND APPARATUS FOR PULSED PLASMA PROCESSING USING A TIME RESOLVED TUNING SCHEME FOR RF POWER DELIVERY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/140371    International Application No.:    PCT/US2009/043771
Publication Date: 19.11.2009 International Filing Date: 13.05.2009
IPC:
H05H 1/36 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 (US) (For All Designated States Except US).
BANNA, Samer [IL/US]; (US) (For US Only).
TODOROW, Valentin [US/US]; (US) (For US Only).
RAMASWAMY, Kartik [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: BANNA, Samer; (US).
TODOROW, Valentin; (US).
RAMASWAMY, Kartik; (US)
Agent: TABOADA, Alan; Moser IP Law Group 1030 Broad Street Suite 203 Shrewsbury, NJ 07702 (US)
Priority Data:
61/127,634 14.05.2008 US
Title (EN) METHOD AND APPARATUS FOR PULSED PLASMA PROCESSING USING A TIME RESOLVED TUNING SCHEME FOR RF POWER DELIVERY
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA PULSÉ FAISANT APPEL À UN MÉCANISME DE SYNTONISATION À RÉSOLUTION TEMPORELLE POUR LA FOURNITURE D'ÉNERGIE RF
Abstract: front page image
(EN)Embodiments of the present invention generally provide methods and apparatus for pulsed plasma processing over a wide process window. In some embodiments, an apparatus may include an RF power supply having frequency tuning and a matching network coupled to the RF power supply that share a common sensor for reading reflected RF power reflected back to the RF power supply. In some embodiments, an apparatus may include an RF power supply having frequency tuning and a matching network coupled to the RF power supply that share a common sensor for reading reflected RF power reflected back to the RF power supply and a common controller for tuning each of the RF power supply and the matching network.
(FR)Des modes de réalisation de l'invention concernent généralement des procédés et un appareil qui permettent de réaliser un traitement au plasma pulsé sur une large fenêtre de traitement. Dans certains modes de réalisation, l'appareil selon l'invention peut comprendre : une alimentation en énergie RF à syntonisation de fréquence; et un réseau d'accord couplé à l'alimentation en énergie RF, qui partagent un capteur commun permettant de lire l'énergie RF réfléchie qui est renvoyée vers l'alimentation en énergie RF. Dans certains modes de réalisation, l'appareil peut comprendre : une alimentation en énergie RF à syntonisation de fréquence; et un réseau d'accord couplé à l'alimentation en énergie RF, qui partagent un capteur commun permettant de lire l'énergie RF réfléchie qui est renvoyée vers l'alimentation en énergie RF, et un contrôleur commun permettant de syntoniser tant l'alimentation en énergie RF que le réseau d'accord.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)