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1. (WO2009139912) IN-LINE EFFLUENT ANALYSIS METHOD AND APPARATUS FOR CMP PROCESS CONTROL
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/139912    International Application No.:    PCT/US2009/003044
Publication Date: 19.11.2009 International Filing Date: 15.05.2009
IPC:
H01L 21/304 (2006.01)
Applicants: CONFLUENSE LLC; 7277 William Avenue Suite 300 Allentown, PA 18106 (US) (For All Designated States Except US).
BENNER, Stephen, J. [US/US]; (US) (For US Only).
PETERS, Darryl, W. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: BENNER, Stephen, J.; (US).
PETERS, Darryl, W.; (US)
Agent: KOBA, Wendy, W.; (US)
Priority Data:
61/127,798 15.05.2008 US
12/454,201 14.05.2009 US
Title (EN) IN-LINE EFFLUENT ANALYSIS METHOD AND APPARATUS FOR CMP PROCESS CONTROL
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL D'ANALYSE DES EFFLUENTS EN LIGNE POUR RÉGULATION DE PROCESSUS DE PLANARISATION MÉCANIQUE ET CHIMIQUE
Abstract: front page image
(EN)An apparatus and method for collecting and analyzing the effluent stream created by a chemical mechanical planarization (CMP) process performs a continuous measurement of at least one effluent characteristic and integrates the results over time to create a volumetric analysis of the planarization process. The volumetric analysis can be used as feedback/feedforward signals to control the planarization process itself (e.g., endpoint detection based upon an known initial thickness of film material), create alarm signals for out-of-range measurements, and/or waste stream indicators useful in treating the effluent prior to discharge (e.g., determining a pH correction).
(FR)L'invention concerne un appareil et un procédé de collecte et d'analyse d'un flux d'effluents créé par un processus de planarisation mécanique et chimique (CMP, chemical mechanical planarization), lequel appareil réalise une mesure continue d'au moins une caractéristique de l'effluent, et intègre les résultats dans le temps pour créer une analyse volumétrique du processus de planarisation. L'analyse volumétrique peut être utilisée pour fournir des signaux de rétroaction et d'action directe pour réguler le processus de planarisation lui-même (par exemple, détection du point final sur la base de l'obtention d'une épaisseur initiale connue du matériau du film), création de signaux d'alarme pour mesures hors plage et/ou indicateurs du flux de résidus, utiles dans le traitement des effluents avant évacuation (par exemple, détermination d'une correction du pH).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)