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1. (WO2009139337) SUBSTRATE WITH OXIDE LAYER AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/139337    International Application No.:    PCT/JP2009/058710
Publication Date: 19.11.2009 International Filing Date: 08.05.2009
IPC:
B23K 26/36 (2006.01), B23K 26/40 (2006.01), G02F 1/1343 (2006.01), H01J 9/02 (2006.01)
Applicants: Asahi Glass Company, Limited. [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP) (For All Designated States Except US).
HIRUMA Takehiko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OKATO Takeshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
AKITA Yosuke [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TOMARU Yoshihiro [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: HIRUMA Takehiko; (JP).
OKATO Takeshi; (JP).
AKITA Yosuke; (JP).
TOMARU Yoshihiro; (JP)
Agent: OGURI Shohei; (JP)
Priority Data:
2008-126026 13.05.2008 JP
Title (EN) SUBSTRATE WITH OXIDE LAYER AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
(FR) SUBSTRAT AVEC COUCHE D'OXYDE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 酸化物層付き基体とその製造方法
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a method for manufacturing a substrate with a patterned oxide layer, which comprises forming an oxide layer that is transparent and conductive and a metal layer, in that order, on a substrate, applying a pulsed laser beam with an energy density of 0.3 to 10 J/cm2, a repetition frequency of 1 to 100 kHz, and a pulse width of 1 ns to 1 µs to the metal layer from the outer surface of the metal layer and removing the metal layer and the oxide layer at the sites where the pulsed laser beam is applied, and removing the metal layer by means of etching.
(FR)L'invention porte sur un procédé de fabrication d’un substrat avec une couche d'oxyde à motifs qui comporte la formation sur un substrat d'une couche d'oxyde, qui est transparente et conductrice, et d'une couche métallique, dans cet ordre, l'application d'un faisceau laser pulsé ayant une densité d'énergie allant de 0,3 à 10 J/cm2, une fréquence de répétition de 1 à 100 kHz, et une largeur d'impulsion de 1 ns à 1 µs, à la couche métallique à partir de la surface externe de la couche métallique, et l’élimination de la couche métallique et de la couche d'oxyde aux emplacements où le faisceau laser pulsé a été appliqué, et l’élimination de la couche métallique au moyen d'une attaque.
(JA) 本発明は、基体上に透明導電性を示す酸化物層、金属層をこの順に形成すること、金属層の外表面側から、エネルギー密度が0.3~10J/cmであり、繰返し周波数が1~100kHz、パルス幅が1ns~1μsである、パルスレーザ光を金属層に向けて照射し、パルスレーザ光の照射部位の金属層と酸化物層とを除去すること、および金属層をエッチングによって除去することを含む、パターニングされた酸化物層付き基体の製造方法に関する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)