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1. (WO2009139189) POSITION DETECTING DEVICE, SUBSTRATE OVERLAPPING APPARATUS, AND OPTICAL AXIS ALIGNING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/139189    International Application No.:    PCT/JP2009/002158
Publication Date: 19.11.2009 International Filing Date: 15.05.2009
IPC:
G01B 11/00 (2006.01), H01L 21/02 (2006.01)
Applicants: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (For All Designated States Except US).
OTAKI, Tatsuro [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: OTAKI, Tatsuro; (JP)
Agent: RYUKA IP Law Firm; 5F, Shinjuku Square Tower, 22-1, Nishi-Shinjuku 6-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1631105 (JP)
Priority Data:
2008-127827 15.05.2008 JP
Title (EN) POSITION DETECTING DEVICE, SUBSTRATE OVERLAPPING APPARATUS, AND OPTICAL AXIS ALIGNING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE DÉTECTION DE POSITION, APPAREIL DE SUPERPOSITION DE SUBSTRATS ET PROCÉDÉ D’ALIGNEMENT D’AXE OPTIQUE
(JA) 位置検出装置、基板重ね合わせ装置、及び光軸合わせ方法
Abstract: front page image
(EN)Provided is a position detecting device, which can correct, even if the position detecting device comprises a first objective optical element and a second objective optical element, the positional discrepancies of the optical axes of those optical elements, thereby to perform highly precise position detection.  The position detecting device (70) comprises the first objective optical element (13), a first imaging unit (12) for receiving a luminous flux having passed through the first objective optical element, the second objective optical element (23) arranged to face the first objective optical element (13), a second imaging unit (22) for receiving a luminous flux having passed through the second objective optical element, and an adjusting unit (60) for adjusting the relative positional discrepancies between the optical axis of the first objective optical element and the optical axis of the second objective optical element.
(FR)L’invention concerne un dispositif de détection de position pouvant corriger, même si le dispositif de détection de position comporte un premier élément optique d’objectif et un second élément optique d’objectif, les écarts de position des axes optiques de ces éléments optiques, pour ainsi exécuter une détection de position très précise. Le dispositif (70) de détection de position comprend un premier élément optique (13) d’objectif, une première unité (12) de formation d’image pour recevoir un flux lumineux qui est passé par le premier élément optique d’objectif, le second élément optique (23) d’objectif se trouvant en face du premier élément optique (13) d’objectif, une seconde unité (22) de formation d’image pour recevoir un flux lumineux qui est passé par le second élément optique d’objectif et une unité (60) d’ajustement pour ajuster les écarts relatifs de position entre l’axe optique du premier élément optique d’objectif et l’axe optique du second élément optique d’objectif.
(JA) 第1対物光学素子と第2対物光学素子とを有していても、それらの光軸の位置ずれ補正して精度良い位置検出を行うことができる位置検出装置を提供する。 位置検出装置(70)は、第1対物光学素子(13)と、第1対物光学素子を通過した光束を受光する第1撮像部(12)と、第1対物光学素子(13)に対向して配置された第2対物光学素子(23)と、第2対物光学素子を通過した光束を受光する第2撮像部(22)と、第1対物光学素子の光軸と第2対物光学素子の光軸との相対的な位置ずれを調整する調整部(60)と、を備える。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)