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1. (WO2009139060) PROCESS FOR PRODUCING LIGHT MATRIX DEVICE AND APPARATUS FOR PRODUCING LIGHT MATRIX DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/139060    International Application No.:    PCT/JP2008/058936
Publication Date: 19.11.2009 International Filing Date: 15.05.2008
IPC:
H01L 27/146 (2006.01), G01T 1/24 (2006.01), G02F 1/1368 (2006.01), H01L 21/288 (2006.01), H01L 21/3205 (2006.01), H01L 27/14 (2006.01)
Applicants: SHIMADZU CORPORATION [JP/JP]; 1, Nishinokyo-Kuwabaracho, Nakagyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6048511 (JP) (For All Designated States Except US).
ADACHI, Susumu [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: ADACHI, Susumu; (JP)
Agent: SUGITANI, Tsutomu; Nishitenma No.11 Matsuya Bldg., 10-8, Nishitenma 1-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300047 (JP)
Priority Data:
Title (EN) PROCESS FOR PRODUCING LIGHT MATRIX DEVICE AND APPARATUS FOR PRODUCING LIGHT MATRIX DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF À MATRICE OPTIQUE ET APPAREIL DE FABRICATION DE DISPOSITIF À MATRICE OPTIQUE
(JA) 光マトリックスデバイスの製造方法および光マトリックスデバイスの製造装置
Abstract: front page image
(EN)This invention provides a process for producing a light matrix device and an apparatus for producing a light matrix device, wherein, in forming a semiconductor film, an insulating film, and an electroconductive film for a light matrix device, liquid droplets as a material for each film jetted from an ink jet nozzle are exposed drop by drop to a laser beam for heat curing or photocuring. According to the above constitution, liquid droplets dropped on the insulating substrate are not moved, and any liquid reservoir as a result of coalescence of adjacent liquid droplets is not formed. Accordingly, a film pattern can be formed in accordance with a dropped film pattern. Upon dropping of the liquid droplets, the liquid droplets are instantaneously cured. Therefore, the height of the liquid droplets can be held, and the film thickness of the film pattern can be evenly formed.
(FR)Cette invention porte sur un procédé de fabrication d'un dispositif à matrice optique et sur un appareil de fabrication d'un dispositif à matrice optique.  Dans la fabrication d'un film semi-conducteur, d'un film isolant et d'un film électro-conducteur pour un dispositif à matrice optique, des gouttelettes de liquide en tant que matériau pour chaque film, projetées par une buse de jet d'encre, sont exposées goutte-à-goutte à un faisceau laser pour un durcissement thermique ou un photo-durcissement. Selon l’agencement précédent, les gouttelettes de liquide déposées sur le substrat isolant ne sont pas déplacées, et aucun réservoir de liquide en résultat d'une coalescence de gouttelettes de liquide adjacentes n'est formé. Par conséquent, un motif de film peut être formé conformément à un motif de film déposé. Suite au dépôt des gouttelettes de liquide, les gouttelettes de liquide sont instantanément durcies. Ainsi, la hauteur des gouttelettes de liquide peut être maintenue et l'épaisseur de film du motif de film peut être formée de façon régulière.
(JA) 本発明の光マトリックスデバイスの製造方法および光マトリックス製造装置によれば、光マトリックスデバイスの半導体膜、絶縁膜および導電体膜を形成する際、インクジェットノズルから射出される各膜の材料である液滴を一滴ごとにレーザー光を照射して熱硬化または光硬化する。これより、絶縁基板上に滴下された液滴が動いたり、隣り合う液滴同士が合体して液ダマリを形成することもないので、滴下した膜パターン通りに膜パターンを形成することができる。また、液滴を滴下してから硬化するまでが瞬時であるので、液滴の高さが保たれ、膜パターンの膜厚を均一に形成することができる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)