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1. (WO2009137669) APPARATUS, SYSTEM AND METHOD FOR CONTROLLING A MATCHING NETWORK
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/137669    International Application No.:    PCT/US2009/043134
Publication Date: 12.11.2009 International Filing Date: 07.05.2009
IPC:
H05H 1/36 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01), H05H 1/24 (2006.01)
Applicants: ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC. [US/US]; 1625 Sharp Point Drive Fort Collins, CO 80525 (US) (For All Designated States Except US).
KARLICEK, Tom [US/US]; (US) (For US Only).
VANZYL, Gidcon, J. [ZA/US]; (US) (For US Only).
SANFORD, Lanc [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: KARLICEK, Tom; (US).
VANZYL, Gidcon, J.; (US).
SANFORD, Lanc; (US)
Agent: O'DOWD, Sean; (US)
Priority Data:
12/334,490 14.12.2008 US
61/051,196 07.05.2008 US
Title (EN) APPARATUS, SYSTEM AND METHOD FOR CONTROLLING A MATCHING NETWORK
(FR) APPAREIL, SYSTÈME ET PROCÉDÉ POUR COMMANDER UN RÉSEAU D’ADAPTATION
Abstract: front page image
(EN)An apparatus, system and method are described that enable an impedance of a plasma load to be matched with a power generator. In some embodiments the apparatus includes a power output adapted to apply power that is utilized to energize a plasma; a sensor adapted to sample power applied at the power output so as to obtain power samples; and an impedance control output configured to provide, responsive to the power samples, an impedance-control signal that enables an impedance matching network connected to the output of the power generator and to the impedance control output to match, responsive to the an impedance-control signal, the impedance of the plasma to the operating impedance of the power generator.
(FR)L’invention concerne un appareil, un système et un procédé qui permettent d’adapter une impédance d’une charge de plasma et un générateur de puissance. Dans certains modes de réalisation, l’appareil comprend une sortie d’alimentation conçue pour appliquer une puissance qui est utilisée pour alimenter un plasma en énergie ; un capteur conçu pour échantillonner la puissance appliquée au niveau de la sortie de puissance de façon à obtenir des échantillons de puissance ; et une sortie de commande d’impédance configurée pour fournir, en réaction aux échantillons de puissance, un signal de commande d’impédance qui permet à un réseau d’adaptation d’impédance connecté à la sortie du générateur de puissance et à la sortie de commande d’impédance d’adapter, en réaction au signal de commande d’impédance, l’impédance du plasma avec l’impédance de service du générateur de puissance.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)