WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Machine translation
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/137301    International Application No.:    PCT/US2009/041990
Publication Date: 12.11.2009 International Filing Date: 28.04.2009
G02B 26/00 (2006.01), B81C 1/00 (2006.01)
Applicants: QUALCOMM MEMS TECHNOLOGIES, INC. [US/US]; 5775 Morehouse Drive San Diego, CA 92121 (US) (For All Designated States Except US).
MILES, Mark, W. [US/US]; (US) (For US Only).
ARBUCKLE, Brian, W. [US/US]; (US) (For US Only).
BITA, Ion [RO/US]; (US) (For US Only).
KOTHARI, Manish [US/US]; (US) (For US Only).
BRINKLEY, Patrick, F. [US/US]; (US) (For US Only).
XU, Gang [US/US]; (US) (For US Only).
KHONSARI, Nassim [CA/US]; (US) (For US Only).
GRIFFITHS, Jonathan, C. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: MILES, Mark, W.; (US).
ARBUCKLE, Brian, W.; (US).
BITA, Ion; (US).
KOTHARI, Manish; (US).
BRINKLEY, Patrick, F.; (US).
XU, Gang; (US).
KHONSARI, Nassim; (US).
GRIFFITHS, Jonathan, C.; (US)
Agent: ABUMERI, Mark, M.; (US)
Priority Data:
12/116,791 07.05.2008 US
Abstract: front page image
(EN)Methods of fabricating a static interferometric image device and static interferometric image device formed by the same are disclosed. In one embodiment, a method includes providing a substrate (1000). A plurality of liquid layers (1062a- 1062c) are formed over the substrate (1000) by an inkjet process such that the layers are lateral to one another. The liquid layers contain a solidifiable material or particles. Then, the plurality of liquid layers are solidified to form a plurality of solid layers ( 1064a- 1064c). In some embodiments, the substrate includes pre-defined cavities (1020), and the liquid layers are formed in the cavities (1020). In other embodiments, the substrate includes a substantially planar, stepped, or continuously transitioning surface, and the liquid layers are formed on the surface. The inkjet process provides optical fillers or spacers for defining interferometric gaps between absorbers and reflectors in the display device, based at least partially on an image that the display device is designed to display.
(FR)L'invention porte sur des procédés de fabrication d'un dispositif d'affichage d’image interférométrique statique et sur un dispositif d'affichage d'image interférométrique statique formé à l'aide du procédé. Selon un mode de réalisation, un procédé comprend l’utilisation d'un substrat (1000). Une pluralité de couches de liquide (1062a-1062c) sont formées sur le substrat (1000) par un traitement par jet d'encre de telle sorte que les couches sont disposées côte à côte. Les couches de liquide contiennent un matériau ou des particules pouvant se solidifier. Ensuite, la pluralité de couches de liquide sont amenées à se solidifier pour former une pluralité de couches solides (1064a-1064c). Selon certains modes de réalisation, le substrat comprend des cavités prédéfinies (1020), et les couches de liquide sont formées dans les cavités (1020). Selon d'autres modes de réalisation, le substrat comprend une surface sensiblement plane, étagée ou à transition sensiblement continue, et les couches de liquide sont formées sur la surface. Le traitement par jet d'encre fournit des charges ou des éléments d'espacement optiques pour définir des intervalles interférométriques entre des absorbeurs et des réflecteurs dans le dispositif d'affichage, sur la base au moins partiellement d'une image que le dispositif d'affichage est conçu pour afficher.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)