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1. (WO2009135586) ILLUMINATION SYSTEM COMPRISING A FOURIER OPTICAL SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/135586    International Application No.:    PCT/EP2009/002824
Publication Date: 12.11.2009 International Filing Date: 17.04.2009
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
SCHWAB, Markus [DE/DE]; (DE) (For US Only).
LAYH, Michael [DE/DE]; (DE) (For US Only).
DEGUENTHER, Markus [DE/DE]; (DE) (For US Only).
HOEGELE, Artur [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: SCHWAB, Markus; (DE).
LAYH, Michael; (DE).
DEGUENTHER, Markus; (DE).
HOEGELE, Artur; (DE)
Agent: VERTRETERZUSAMMENSCHLUSS CARL ZEISS AG-PATENTABTEILUN; Carl Zeiss AG - Patentabteilung Carl-Zeiss-Straβe 22 73447 Oberkochen (DE)
Priority Data:
102008023763.9 09.05.2008 DE
61/051,785 09.05.2008 US
102008035320.5 25.07.2008 DE
Title (EN) ILLUMINATION SYSTEM COMPRISING A FOURIER OPTICAL SYSTEM
(FR) SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE COMPRENANT UN SYSTÈME À OPTIQUE DE FOURIER
Abstract: front page image
(EN)An illumination system (190) for a microlithography projection exposure apparatus (100) for illuminating an illumination field (165) with the light from a primary light source (102) has a variably adjustable pupil shaping unit (150) for receiving light from the primary light source (102) and for generating a variably adjustable two-dimensional intensity distribution in a pupil shaping surface (110) of the illumination system. The pupil shaping unit (150) has a Fourier optical system (500) for converting an entrance beam bundle (105) entering through an entrance plane of the Fourier optical system into an exit beam bundle exiting from an exit plane of the Fourier optical system. The Fourier optical system has a focal length fFOS and a structural length L measured between an entrance-side first system surface and an exit-side last system surface along an optical axis and the condition (L/fFOS) < 1/6 holds true.
(FR)La présente invention concerne un système d'éclairage (190) destiné à un projecteur d'exposition pour microlithographie (100) servant à éclairer une zone d'éclairage (165) au moyen de la lumière d'une source de lumière primaire (102). Ce système d'éclairage comporte une unité de mise en forme de pupille réglable de façon variable (150) servant à recevoir la lumière provenant de la source de lumière primaire (102) et à générer une distribution d'intensité bidimensionnelle réglable de façon variable dans une surface de mise en forme de pupille (110) du système d'éclairage. L'unité de mise en forme de pupille (150) est pourvue d'un système à optique de Fourier (500) servant à convertir un faisceau de rayons d'entrée (105) pénétrant, par le plan d'entrée du système à optique de Fourier, en un faisceau de rayons de sortie sortant par un plan de sortie du système à optique de Fourier. Le système à optique de Fourier respecte la relation (L/fFOS) < 1/6 dans laquelle fFOS est une longueur focale et L est une longueur structurelle mesurée le long d'un axe optique entre une première surface du système côté entrée et une dernière surface système côté sortie.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)