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1. (WO2009135556) PROJECTION OPTIC FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING AN INTENSITY-CORRECTING DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/135556    International Application No.:    PCT/EP2009/001684
Publication Date: 12.11.2009 International Filing Date: 10.03.2009
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G02B 27/00 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
FIOLKA, Damien [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: FIOLKA, Damien; (DE)
Agent: CARL ZEISS SMT AG; Carl-zeiss-strasse 22 D-73447 Oberkochen Allemagne (DE)
Priority Data:
10 2008 001 694.2 09.05.2008 DE
61/051,761 09.05.2008 US
Title (DE) PROJEKTIONSOPTIK FÜR DIE MIKROLITHOGRAFIE MIT INTENSITÄTS-KORREKTUREINRICHTUNG
(EN) PROJECTION OPTIC FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING AN INTENSITY-CORRECTING DEVICE
(FR) OPTIQUE DE PROJECTION POUR LA MICROLITHOGRAPHIE COMPORTANT UN DISPOSITIF DE CORRECTION D'INTENSITÉ
Abstract: front page image
(DE)Eine Projektionsoptik (8) für die Mikrolithografie dient zur Abbildung eines Objektfeldes (5) in einer Objektebene (6) in ein Bildfeld in einer Bildebene (10). Eine Intensitäts-Korrektureinrichtung (25; 32; 35; 36) dient zur Korrektur einer Intensitätsbeaufschlagung einer Feldbeleuchtung. Die Intensitäts-Korrektureinrichtung (25; 32; 35; 36) ist im Bereich mindestens einer Korrektur-Feldebene (23, 24, 10) der Projektionsoptik (8) angeordnet. Die Korrektur-Feldebene ist der Objektebene (6) nachgeordnet. Es resultiert eine Projektionsoptik, bei der eine Korrektur von unerwünschten Variationen von Beleuchtungsparametern, insbesondere eine Korrektur einer unerwünschten Variation einer FeId-Beleuchtungsintensitätsverteilung, möglich ist.
(EN)A projection optic (8) for microlithography is used for imaging an object field (5) in an object plane (6) in an image field in an image plane (10). An intensity-correcting device (25; 32; 35; 36) is used for correcting an applied intensity of a field illumination. The intensity-correcting device (25; 32; 35; 36) is disposed in the area of at least one correction field plane (23, 24, 10) of the projection optic (8). The correction field plane is downstream of the object plane (6). A projection optic results in which a correction of undesired variations of illumination parameters, in particular a correction of an undesired variation of a field illumination intensity distribution, is possible.
(FR)L'invention concerne une optique de projection (8) pour la microlithographie, servant à reproduire un champ d'objet (5) situé dans un plan d'objet (6), dans un champ d'image situé dans un plan d'image (10). Un dispositif de correction d'intensité (25; 32; 35; 36) sert à corriger l'intensité d'un éclairage de champ. Le dispositif de correction d'intensité (25; 32; 35; 36) est disposé dans la zone d'au moins un plan de champ de correction (23, 24, 10) de l'optique de projection (8). Le plan de champ de correction est disposé en aval du plan d'objet (6). Il en résulte une optique de projection permettant une correction de variations non souhaitées de paramètres d'éclairage, notamment une correction de variations non souhaitées d'une distribution d'intensité d'éclairage de champ.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)