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1. (WO2009135471) PLASMA GENERATOR AND METHOD FOR CONTROLLING A PLASMA GENERATOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/135471    International Application No.:    PCT/DE2009/000615
Publication Date: 12.11.2009 International Filing Date: 29.04.2009
IPC:
H01J 27/16 (2006.01), H01J 27/18 (2006.01), H01J 37/32 (2006.01), F03H 1/00 (2006.01)
Applicants: ASTRIUM GMBH [DE/DE]; Robert-Koch-Strasse 1 82024 Taufkirchen (DE) (For All Designated States Except US).
KADRNOSCHKA, Werner [DE/DE]; (DE) (For US Only).
KILLINGER, Rainer [DE/DE]; (DE) (For US Only).
KUKIES, Ralf [DE/DE]; (DE) (For US Only).
LEITER, Hans [DE/DE]; (DE) (For US Only).
MÜLLER, Johann [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SCHULTE, Georg [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: KADRNOSCHKA, Werner; (DE).
KILLINGER, Rainer; (DE).
KUKIES, Ralf; (DE).
LEITER, Hans; (DE).
MÜLLER, Johann; (DE).
SCHULTE, Georg; (DE)
Priority Data:
10 2008 022 181.3 05.05.2008 DE
Title (DE) PLASMAERZEUGER UND VERFAHREN ZUM STEUERN EINES PLASMAERZEUGERS
(EN) PLASMA GENERATOR AND METHOD FOR CONTROLLING A PLASMA GENERATOR
(FR) GÉNÉRATEUR DE PLASMA ET PROCÉDÉ DE COMMANDE D'UN GÉNÉRATEUR DE PLASMA
Abstract: front page image
(DE)Ein Plasmaerzeuger mit einem Gehäuse (20), das eine Ionisationskammer (5) umgibt; zumindest einer in die Ionisationskammer (5) mündenden Arbeitsfluidzuführung (30) wobei die Ionisationskammer (5) zumindest eine Auslassöffnung (21) aufweist; zumindest einer elektrischen Spulenanordnung (4), die zumindest einen Bereich der Ionisationskammer (5) umgibt; wobei die Spulenanordnung (4) mit einer Hochfrequenz-Wechselstromquelle (AC) elektrisch verbunden ist, die so ausgebildet ist, dass sie zumindest eine Spule der Spulenanordnung (4) mit einer hochfrequenten elektrischen Wechselspannung beaufschlagt, zeichnet sich dadurch aus, dass eine weitere Stromquelle (DC) vorgesehen ist, die so ausgebildet ist, dass sie zumindest eine Spule der Spulenanordnung (4) mit einer Gleichspannung oder einer Wechselspannung von niedrigerer Frequenz, als die von der Hochfrequenz-Wechselstromquelle (AC) gelieferte Spannung beaufschlagt.
(EN)The invention relates to a plasma generator comprising a housing (20) that surrounds an ionisation chamber (5); at least one working fluid supply line (30) leading into the ionisation chamber (5), said ionisation chamber (5) comprising at least one outlet (21); and at least one electric coil arrangement (4) that surrounds at least one area of the ionisation chamber (5); said coil arrangement (4) being electrically connected to a high-frequency alternating current source (AC) that is designed such that a high frequency electric alternating current is applied to at least one coil of the coil arrangement (4). Said plasma generator is characterised in that an additional current source (DC) is designed such that a DC current or an alternating voltage is applied at a lower frequency than the voltage supplied by the high frequency alternating current source (AC) to at least one coil of the coil arrangement (4), is provided.
(FR)L'invention concerne un générateur de plasma comportant un boîtier (20) entourant une chambre d'ionisation (5); au moins une conduite d'amenée de fluide de travail (30) aboutissant dans la chambre d'ionisation (5), la chambre d'ionisation (5) présentant au moins une ouverture de sortie (21); et au moins un dispositif électrique de bobines (4) entourant au moins une partie de la chambre d'ionisation (5). Le dispositif de bobines (4) est connecté électriquement à une source de courant alternatif haute fréquence (AC) conçue de manière à appliquer une tension électrique alternative haute fréquence à au moins une bobine du dispositif de bobines (4). Le générateur de plasma est caractérisé en ce qu'une autre source de courant (DC) est prévue, celle-ci étant conçue de manière à appliquer une tension continue ou une tension alternative de fréquence inférieure à la fréquence de la tension fournie par la source de courant alternatif haute fréquence (AC), à au moins une bobine du dispositif de bobines (4).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)