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1. (WO2009134762) 3D TWO-PHOTON LITHOGRAPHIC MICROFABRICATION SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/134762    International Application No.:    PCT/US2009/041923
Publication Date: 05.11.2009 International Filing Date: 28.04.2009
IPC:
G02B 21/06 (2006.01), G01N 21/25 (2006.01), G01N 21/64 (2006.01)
Applicants: MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY [US/US]; 77 Massachusetts Avenue Cambridge, MA 02139 (US) (For All Designated States Except US).
KIM, Daekeun [KR/US]; (US) (For US Only).
SO, Peter, T.C. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: KIM, Daekeun; (US).
SO, Peter, T.C.; (US)
Agent: CONNORS, Matthew E.; Samuels, Gauthier, & Stevens, LLP, 225 Franklin Street, Suite 3300, BOSTON, MA 02110 (US)
Priority Data:
61/048,284 28.04.2008 US
Title (EN) 3D TWO-PHOTON LITHOGRAPHIC MICROFABRICATION SYSTEM
(FR) SYSTÈME DE MICRO-FAÇONNAGE LITHOGRAPHIQUE 3D DOUBLE PHOTON
Abstract: front page image
(EN)An imaging system is provided that includes a optical pulse generator for providing an optical pulse having a spectral bandwidth and includes monochromatic waves having different wavelengths. A dispersive element receives a second optical pulse associated with the optical pulse and disperses the second optical pulse at different angles on the surface of the dispersive element depending on wavelength. One or more focal elements receives the dispersed second optical pulse produced on the dispersive element. The one or more focal element recombine the dispersed second optical pulse at a focal plane on a specimen where the width of the optical pulse is restored at the focal plane.
(FR)L'invention concerne un système d’imagerie comprenant un générateur d’impulsions optiques servant à fournir une impulsion optique caractérisée par une largeur de bande spectrale et comprenant des ondes monochromatiques présentant des longueurs d’ondes différentes. Un élément dispersif reçoit une deuxième impulsion optique associée à l’impulsion optique et disperse la deuxième impulsion optique sous différents angles à la surface de l’élément dispersif dépendant de la longueur d’onde. Un ou plusieurs éléments focaux reçoivent la deuxième impulsion optique dispersée produite sur l’élément dispersif. Le ou les éléments focaux recombinent la deuxième impulsion optique dispersée dans un plan focal sur une éprouvette où la largeur de l’impulsion optique est rétablie dans le plan focal.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)