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1. (WO2009133961) METHODS OF MANUFACTURING CAPACITIVE ELECTROMECHANICAL TRANSDUCER AND CAPACITIVE ELECTROMECHANICAL TRANSDUCERS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/133961    International Application No.:    PCT/JP2009/058720
Publication Date: 05.11.2009 International Filing Date: 28.04.2009
IPC:
B06B 1/02 (2006.01), B81B 3/00 (2006.01), H01L 21/306 (2006.01)
Applicants: CANON KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 30-2, Shimomaruko 3-chome, Ohta-ku, Tokyo 1468501 (JP) (For All Designated States Except US).
CHANG, Chienliu [--/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: CHANG, Chienliu; (JP)
Agent: OKABE, Masao; No. 602, Fuji Bldg., 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
Priority Data:
2008-120391 02.05.2008 JP
2009-057263 11.03.2009 JP
Title (EN) METHODS OF MANUFACTURING CAPACITIVE ELECTROMECHANICAL TRANSDUCER AND CAPACITIVE ELECTROMECHANICAL TRANSDUCERS
(FR) PROCÉDÉS DE FABRICATION DE TRANSDUCTEURS ÉLECTROMÉCANIQUES CAPACITIFS ET TRANSDUCTEURS ÉLECTROMÉCANIQUES CAPACITIFS
Abstract: front page image
(EN)In a method of manufacturing a capacitive electromechanical transducer, a first electrode (8) is formed on a substrate (4), an insulating layer (9) which has an opening (6) leading to the first electrode is formed on the first electrode (8), and a sacrificial layer is formed on the insulating layer. A membrane (3) having a second electrode (1) is formed on the sacrificial layer, and an aperture is provided as an etchant inlet in the membrane. The sacrificial layer is etched to form a cavity (10), and then the aperture serving as an etchant inlet is sealed. The etching is executed by electrolytic etching in which a current is caused to flow between the first electrode (8) and an externally placed counter electrode through the opening (6) and the aperture of the membrane.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d’un transducteur électromécanique capacitif, comportant les étapes suivantes : une première électrode (8) est formée sur un substrat (4), une couche isolante (9) comportant une ouverture (6) donnant sur la première électrode est formée sur la première électrode (8) et une couche sacrificielle est formée sur la couche isolante. Une membrane (3) munie d’une deuxième électrode (1) est formée sur la couche sacrificielle, et on pratique dans la membrane un orifice servant d’entrée d’agent de gravure. La couche sacrificielle est gravée de façon à former une cavité (10), puis l’orifice servant d’entrée d’agent de gravure est scellé. La gravure est exécutée par gravure électrolytique en faisant circuler un courant entre la première électrode (8) et une contre-électrode placée extérieurement à travers l’ouverture (6) et l’orifice de la membrane.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)