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1. (WO2009133291) METHOD AND SYSTEM FOR RECORDING DATA IN NANOSTRUCTURES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/133291    International Application No.:    PCT/FR2009/000411
Publication Date: 05.11.2009 International Filing Date: 08.04.2009
IPC:
G11B 7/26 (2006.01)
Applicants: ANDRE, Pascal [FR/FR]; (FR)
Inventors: ANDRE, Pascal; (FR)
Agent: LEBOYER, Jean-Jacques; Cabinet Leboyer 12, rue du Helder F-75009 Paris (FR)
Priority Data:
08/01939 08.04.2008 FR
Title (EN) METHOD AND SYSTEM FOR RECORDING DATA IN NANOSTRUCTURES
(FR) PROCEDE ET SYSTEME POUR L'ENREGISTREMENT DE DONNEES EN NANOSTRUCTURE
Abstract: front page image
(EN)The invention relates to a method for making recordings in nanostructures, especially on a medium with optical read-out, comprising the use of a large thickness of photoresist and the use of a controlled-focus high-power laser, whereas said laser is kept operational at the focal point at a temperature sufficient to provide reverse etching, based on the swelling of the surface of the photoresist under the thermal effect of the laser. Application: production of master disks or semiconductor wafers.
(FR)L'invention concerne un procédé pour la réalisation d'enregistrements en nanostructures, notamment sur support à lecture optique, comprenant la mise en œuvre d'une épaisseur élevée de résine photosensible, et l'utilisation d'un laser de forte puissance et ayant une focalisation maîtrisée, tandis que ledit laser est maintenu opérationnel à une température au point de focalisation suffisante pour procurer une gravure inversée, reposant sur un gonflement de la surface de la résine sous l'effet thermique du laser. Application à l'obtention de disques maîtres ou de semi-conducteurs.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: French (FR)
Filing Language: French (FR)