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1. (WO2009132822) DEVICE AND METHOD FOR PRETREATING AND COATING BODIES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/132822    International Application No.:    PCT/EP2009/003082
Publication Date: 05.11.2009 International Filing Date: 28.04.2009
IPC:
H01J 37/34 (2006.01), C23C 14/35 (2006.01), C23C 14/34 (2006.01), C23C 14/02 (2006.01)
Applicants: CEMECON AG [DE/DE]; Adenauerstrasse 20A4 52146 Würselen (DE) (For All Designated States Except US).
CREMER, Rainer [DE/DE]; (DE) (For US Only).
MAY, Walter [DE/BE]; (BE) (For US Only)
Inventors: CREMER, Rainer; (DE).
MAY, Walter; (BE)
Agent: WENZEL & KALKOFF; Martin-Schmeisser-Weg 3a-3b 44227 Dortmund (DE)
Priority Data:
10 2008 021 128.1 28.04.2008 DE
Title (DE) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM VORBEHANDELN UND BESCHICHTEN VON KÖRPERN
(EN) DEVICE AND METHOD FOR PRETREATING AND COATING BODIES
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE PRÉTRAITEMENT ET DE REVÊTEMENT DE CORPS
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Vorbehandeln und Beschichten von Körpern durch Magnetronzerstäuben. In einer Vakuumkammer mit metallischer Kammerwandung (26) sind Magnetrons mit Sputter-Targets angeordnet, von denen mindestens eines ein HPPMS-Magnetron ist, dem elektrische Pulse zugeführt werden, indem ein Kapazitätselement (6) durch ein Schaltelement (5) mit dem Sputter-Target des HPPMS-Magnetron verbunden wird. Um eine effektive Vorbehandlung und Beschichtung von Substraten zu ermöglichen, ist gemäß einem ersten Aspekt vorgesehen, dass das Schaltelement an der Kammerwandung angeordnet ist.
(EN)The invention relates to a device and to a method for pretreating and coating bodies by magnetron atomization. Said device comprises a vacuum chamber with metal chamber walls (26) and magnetrons with sputter-targets are arranged in said vacuum chamber, at least one magnetron being an HPPMS magnetron to which electric impulses are fed such that a capacitive element (6) is connected by a switch element (5) to the sputter-target of the HPPMS-magnetron. According to a first aspect of the invention, in order to effectively pretreat and coat substrates, the switch element is arranged on the chamber wall.
(FR)L'invention concerne un dispositif et un procédé de prétraitement et de revêtement de corps par pulvérisation au magnétron. Une chambre à vide comportant des parois métalliques (26) contient des magnétrons pourvus de cibles de pulvérisation, au moins un magnétron étant un magnétron HPPMS recevant des impulsions électriques du fait qu'un élément condensateur (6) est connecté à la cible de pulvérisation du magnétron HPPMS par un élément de commutation (5). Pour permettre un prétraitement et un revêtement efficaces de substrats, l'élément de commutation est disposé sur la paroi de la chambre dans un premier mode de réalisation. Dans un deuxième mode de réalisation, une paire d'électrodes est prévue, la première électrode étant un magnétron HPPMS (1) et la première et la deuxième électrode étant disposées de telle manière qu'un corps (11) reçu sur un plateau de substrat (4) est disposé entre les surfaces actives de la paire d'électrodes ou est déplacé à travers l'espace intermédiaire situé entre les surfaces actives de la paire d'électrodes. Dans un troisième mode de réalisation, l'invention concerne un procédé consistant à appliquer, dans une étape de décapage, une tension de polarisation négative au corps, à décaper le corps par bombardement avec des ions métalliques et à baisser ensuite la tension de polarisation en continu de telle manière que le matériau enlevé des cibles de pulvérisation par pulvérisation crée une structure de couches sur le corps.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)