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1. (WO2009131693) ION SOURCE WITH ADJUSTABLE APERTURE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/131693    International Application No.:    PCT/US2009/002521
Publication Date: 29.10.2009 International Filing Date: 23.04.2009
IPC:
H01J 37/09 (2006.01), H01J 37/317 (2006.01), H01J 27/00 (2006.01), H01J 27/08 (2006.01)
Applicants: AXCELIS TECHNOLOGIES, INC. [US/US]; 108 Cherry Hill Drive Beverly, MA 01915 (US) (For All Designated States Except US).
TIEGER, Daniel [US/US]; (US) (For US Only).
DIVERGILIO, William [US/US]; (US) (For US Only).
EISNER, Edward [US/US]; (US) (For US Only).
GRAF, Michael [CA/US]; (US) (For US Only)
Inventors: TIEGER, Daniel; (US).
DIVERGILIO, William; (US).
EISNER, Edward; (US).
GRAF, Michael; (US)
Priority Data:
61/047,528 24.04.2008 US
Title (EN) ION SOURCE WITH ADJUSTABLE APERTURE
(FR) SOURCE D’IONS À OUVERTURE RÉGLABLE
Abstract: front page image
(EN)An ion implanter system including an ion source for use in creating a stream or beam of ions. The ion source has an ion source chamber housing that at least partially bounds an ionization region for creating a high density concentration of ions within the chamber housing. An ion extraction aperture (340, 342) of desired characteristics covers an ionization region of the arc chamber. In one embodiment, a movable ion extraction aperture plate (310) is moved with respect to the housing for modifying an ion beam profile. One embodiment includes an aperture plate having at least elongated apertures (340, 342) and is moved between at least first and second positions that define different ion beam profiles. A drive or actuator coupled to the aperture plate moves the aperture plate between the first and second positions. An alternate embodiment has two moving plate portions that bound an adjustable aperture.
(FR)L'invention concerne un système implanteur d’ions comprenant une source d’ions destinée à être utilisée pour créer un flux ou un faisceau d’ions. La source d’ions comporte un boîtier formant chambre de source d’ions qui délimite au moins partiellement une région d’ionisation en vue de créer une concentration à forte densité d’ions à l’intérieur du boîtier formant chambre. Une ouverture (340, 342) d’extraction d’ions présentant des caractéristiques souhaitées recouvre une région d’ionisation de la chambre à arc. Dans un mode de réalisation, on déplace une plaque mobile (310) d’ouverture d’extraction d’ions par rapport au boîtier pour modifier un profil du faisceau d’ions. Un des modes de réalisation comprend une plaque d’ouverture pourvue au moins d’ouvertures allongées (340, 342) et peut prendre au moins une première et une deuxième position définissant des profils différents du faisceau d’ions. Un entraînement ou un actionneur couplé à la plaque d’ouverture déplace la plaque d’ouverture entre la première et la deuxième position. Une variante de mode de réalisation comporte deux parties mobiles de plaque qui délimitent une ouverture réglable.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)