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1. (WO2009127659) BEAMLET BLANKER ARRANGEMENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/127659    International Application No.:    PCT/EP2009/054468
Publication Date: 22.10.2009 International Filing Date: 15.04.2009
IPC:
H01J 37/317 (2006.01)
Applicants: MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V. [NL/NL]; Computerlaan 15 NL-2628 XK Delft (NL) (For All Designated States Except US).
WIELAND, Jan Jaco [NL/NL]; (NL) (For US Only).
VAN VEEN, Alexander Hendrik Vincent [NL/NL]; (NL) (For US Only)
Inventors: WIELAND, Jan Jaco; (NL).
VAN VEEN, Alexander Hendrik Vincent; (NL)
Agent: OWEN, David; (NL)
Priority Data:
61/045,243 15.04.2008 US
Title (EN) BEAMLET BLANKER ARRANGEMENT
(FR) ELIMINATEUR DE FAISCEAUX
Abstract: front page image
(EN)The invention relates to a charged particle multi-beamlet lithography system for exposing a target (11) using a plurality of beamlets. The system has a beam generator, a beamlet blanker (6), and a beamlet projector. The beam generator is configured to generate a plurality of charged particle beamlets. The beamlet blanker (6) is configured to pattern the beamlets. The beamlet projector is configured to project the patterned beamlets onto the target surface (11). The system further has a deflection device. The deflection device has a plurality of memory cells. Each memory cell is provided with a storage element and is connected to a switching electrode of a deflector.
(FR)L'invention concerne un système de lithographie à faisceaux multiples de particules chargées destiné à exposer une cible en utilisant une pluralité de faisceaux. Le système possède un générateur de faisceaux, un éliminateur de faisceaux, et un projecteur de faisceaux. Le générateur de faisceaux est configuré pour générer une pluralité de faisceaux de particules chargées. L'éliminateur de faisceaux est configuré pour mettre les faisceaux en forme. Le projecteur de faisceaux est configuré pour projeter les faisceaux mis en forme sur la surface de la cible. Le système possède en outre un dispositif de déviation. Le dispositif de déviation possède une pluralité de cellules de mémoire. Chaque cellule de mémoire est munie d'un élément de stockage et est reliée à une électrode de commutation d'un déflecteur.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)