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1. (WO2009125773) ELECTROMECHANICAL TRANSDUCER, ELECTROMECHANICAL TRANSDUCER DEVICE, AND FABRICATION METHOD FOR SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2009/125773 International Application No.: PCT/JP2009/057145
Publication Date: 15.10.2009 International Filing Date: 07.04.2009
IPC:
H04R 19/04 (2006.01) ,H04R 19/01 (2006.01)
Applicants: KAGEYAMA, Kensuke; null (UsOnly)
National University Corporation Saitama University[JP/JP]; 255, Shimo-ookubo, Sakura-ku, Saitama-shi, Saitama 3388570, JP (AllExceptUS)
Inventors: KAGEYAMA, Kensuke; null
Agent: MIYOSHI, Hidekazu; Toranomon Kotohira Tower 2-8, Toranomon 1-chome Minato-ku, Tokyo 1050001, JP
Priority Data:
2008-09967407.04.2008JP
2008-27128821.10.2008JP
Title (EN) ELECTROMECHANICAL TRANSDUCER, ELECTROMECHANICAL TRANSDUCER DEVICE, AND FABRICATION METHOD FOR SAME
(FR) TRANSDUCTEUR ÉLECTROMÉCANIQUE, DISPOSITIF DE TRANSDUCTEUR ÉLECTROMÉCANIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 機械電気変換素子、機械電気変換装置及びその製造方法
Abstract: front page image
(EN) An electromechanical transducer is equipped with a vibrating electrode (15b), a vibrating electrode insulating film (15a) that is disposed on the bottom surface of the vibrating electrode (15b), an electret layer (13) opposite the vibrating electrode (15b), an electret insulating layer (14e) that is bonded to the top surface of the electret layer (13), and a back electrode (17) that contacts the bottom surface of the electret layer (13). There is a 10 nm to 100 µm micro-gap between the vibrating electrode insulating film (15a) and the electret insulating film (14e). The centerline roughness average (Ra) of the vibrating electrode (15b), including deflection, is no more than 1/10 of the gap width, defined as the space between the bottom surface of the vibrating electrode (15b) and the top surface of the electret layer (13).
(FR) La présente invention porte sur un transducteur électromécanique qui est pourvu d'une électrode vibrante (15b), d'un film isolant d'électrode vibrante (15a) qui est disposé sur la surface inférieure de l'électrode vibrante (15b), d'une couche d'électret (13) opposée à l'électrode vibrante (15b), d'une couche isolante d'électret (14e) qui est reliée à la surface supérieure de la couche d'électret (13) et d'une électrode arrière (17) qui vient en contact avec la surface inférieure de la couche d'électret (17). Il y a un micro-espace de 10 nm à 100 µm entre le film isolant d'électrode vibrante (15a) et le film isolant d'électret (14e). La rugosité moyenne (Ra) de l'axe central de l'électrode vibrante (15b), comprenant la déviation, n'est pas supérieure à 1/10 de la largeur de l'espace, défini comme étant l'espace entre la surface inférieure de l'électrode vibrante (15b) et la surface supérieure de la couche d'électret (13).
(JA)  この機械電気変換素子は、振動電極(15b)と、振動電極(15b)の下面に設けられた振動電極絶縁フィルム(15a)と、振動電極(15b)に対向したエレクトレット層(13)と、エレクトレット層(13)の上面に接合されたエレクトレット絶縁層(14e)と、エレクトレット層(13)の下面に接した背面電極17とを備える。振動電極絶縁フィルム(15a)とエレクトレット絶縁層(14e)との間に10nm~100μmのマイクロギャップ部を有する。撓みを含めた振動電極(15b)の中心線平均粗さRaが、振動電極(15b)の下面とエレクトレット層(13)の上面との間で定義されるギャップ幅の1/10以下である。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)