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1. (WO2009125752) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTOSENSITIVE RESIN LAMINATE COMPRISING THE SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/125752    International Application No.:    PCT/JP2009/057081
Publication Date: 15.10.2009 International Filing Date: 06.04.2009
IPC:
G03F 7/022 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/40 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H05K 3/06 (2006.01), H05K 3/18 (2006.01)
Applicants: Asahi Kasei E-materials Corporation [JP/JP]; 1-105 Kanda Jinbocho, Chiyoda-ku, Tokyo, 1018101 (JP) (For All Designated States Except US).
HATA, Yosuke [JP/JP]; (JP) (For US Only).
IDE, Youichiroh [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: HATA, Yosuke; (JP).
IDE, Youichiroh; (JP)
Agent: AOKI, Atsushi; SEIWA PATENT & LAW, Toranomon 37 Mori Bldg., 5-1, Toranomon 3-chome, Minato-ku, Tokyo, 1058423 (JP)
Priority Data:
2008-102036 10.04.2008 JP
2008-102038 10.04.2008 JP
Title (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTOSENSITIVE RESIN LAMINATE COMPRISING THE SAME
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE ET STRATIFIÉ DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE COMPRENANT LADITE COMPOSITION
(JA) 感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性樹脂積層体
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a photosensitive resin composition which enables the formation of a pattern thereon, and can be formed into a flexible dry film that produces a sufficiently reduced quantity of cutting dusts when the film is cut. Specifically disclosed are: a photosensitive resin composition comprising (A) an alkali-soluble phenolic resin, (B) a photosensitizing agent having a 1,2-naphthoquinonediazide group, and (C) an alkali-soluble resin having a group derived from an aromatic hydroxy compound in a side chain; and/or a photosensitive resin composition comprising (A) an alkali-soluble phenolic resin, (B) a photosensitizing agent having a 1,2-naphthoquinonediazide group, and (D) a compound which is induced from at least one compound selected from the group consisting of Bisphenol A, Bisphenol E, Bisphenol F, Bisphenol S and a compound produced by hydrogenating any one of the above-mentioned compounds and which has at least one hydroxy group at the terminal.
(FR)L'invention concerne une composition de résine photosensible permettant la formation d'un motif sur cette dernière, et pouvant être formée sous forme d'un film sec souple qui produit une quantité suffisamment réduite de poussières de découpe lorsque ledit film est découpé. L'invention concerne plus spécifiquement : une composition de résine photosensible comprenant (A) une résine phénolique alcalino-soluble, (B) un agent photosensibilisant comprenant un groupe 1,2-naphthoquinonediazide, et (C) une résine alcalino-soluble comprenant un groupe dérivé d'un composé hydroxy aromatique dans une chaîne latérale; et/ou une composition de résine photosensible comprenant (A) une résine phénolique alcalino-soluble, (B) un agent photosensibilisant comprenant un groupe 1,2-naphthoquinonediazide, et (D) un composé qui est induit à partir d'au moins un composé sélectionné dans le groupe constitué par bisphénol A, bisphénol E, bisphénol F, bisphénol S et un composé produit par hydrogénation de l'un quelconque des composés précités et qui comprend au moins un groupe hydroxy au niveau de la terminaison.
(JA) 本発明により、パターン形成が可能で、ドライフィルムとして形成された際に、感光性樹脂組成物が柔軟であり、そのフィルムを切断しても切り屑の発生が十分に抑制される感光性樹脂組成物が提供される。本発明に係る感光性樹脂組成物は、(A)アルカリ可溶性フェノール樹脂、(B)1,2-ナフトキノンジアジド基を含む感光剤、及び(C)側鎖に芳香族ヒドロキシ化合物に由来する基を有するアルカリ可溶性樹脂を含有してなる感光性樹脂組成物、及び/又は(A)アルカリ可溶性フェノール樹脂、(B)1,2-ナフトキノンジアジド基を含む感光剤、並びに(D)ビスフェノールA、ビスフェノールE、ビスフェノールF及びビスフェノールS、並びにこれらを水素添加して得られる化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物から誘導され、且つ末端に水酸基を少なくとも1つ有する化合物を、含有してなる感光性樹脂組成物である。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)