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1. (WO2009123758) MANUFACTURE OF LEAD ACID BATTERIES UTILIZING CONTROLLED CORROSION PROCESSES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/123758    International Application No.:    PCT/US2009/002114
Publication Date: 08.10.2009 International Filing Date: 03.04.2009
IPC:
H01M 4/56 (2006.01)
Applicants: GLASCOCK, Battle [US/US]; (US)
Inventors: GLASCOCK, Battle; (US)
Agent: DOWELL & DOWELL, P.C.; 103 Oronoco Street Suite 220 Alexandria, VA 22314 (US)
Priority Data:
61064927 03.04.2008 US
Title (EN) MANUFACTURE OF LEAD ACID BATTERIES UTILIZING CONTROLLED CORROSION PROCESSES
(FR) FABRICATION DE BATTERIES D'ACCUMULATEURS AU PLOMB UTILISANT DES PROCÉDÉS DE CORROSION CONTRÔLÉE
Abstract: front page image
(EN)Controlled corrosion processes in the production of lead acid batteries, wherein the processes utilize one atmospheric glow discharge plasma (OAGDP) to generate etched and chemically altered grids to increase the development of electrically conductive lead dioxide. The process involves placing pasted or unpasted lead or lead alloy grids in a chamber having two plasma-generating electrodes therein. A feed stream is directed into the chamber and passes between the electrodes to develop a plasma at atmospheric pressure. In the plasma, the components of the feed stream break down into atomic and reactive species to create a reactive environment. When the lead or lead alloy grids are exposed the reactive environment, chemical reactions occur between the reactive species and the lead components in the grids to chemically etch and remove contaminates from the grids, as well as form a uniform crystalline structure of lead nitrate across the grid surface, which can react to form a layer of lead dioxide on the grid surface.
(FR)L'invention porte sur des procédés à corrosion contrôlée dans la production de batteries d'accumulateurs au plomb, les procédés utilisant un plasma de décharge luminescente atmosphérique (OAGDP) pour générer des grilles attaquées et chimiquement modifiées pour augmenter le développement de dioxyde de plomb conducteur de l'électricité. Le procédé met en jeu la mise en place de grilles de plomb ou d'alliage de plomb collées ou non collées dans une chambre dans laquelle se trouvent deux électrodes de génération de plasma. Un courant d'alimentation est dirigé dans la chambre et passe entre les électrodes pour développer un plasma à la pression atmosphérique. Dans le plasma, les composants du courant d'alimentation se décomposent en espèces atomiques et réactives pour créer un environnement réactif. Lorsque les grilles de plomb ou d'alliage de plomb sont exposées à l'environnement réactif, des réactions chimiques se produisent entre les espèces réactives et les composants en plomb dans les grilles pour attaquer chimiquement et retirer des produits de contamination des grilles, ainsi que former une structure cristalline uniforme de nitrate de plomb sur toute la surface de la grille, qui peut réagir pour former une couche de dioxyde de plomb sur la surface de la grille.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)