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1. (WO2009120918) LASER MICROMACHINING USING PROGRAMMABLE PULSE SHAPES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/120918    International Application No.:    PCT/US2009/038489
Publication Date: 01.10.2009 International Filing Date: 27.03.2009
IPC:
H01S 3/10 (2006.01), H01S 3/00 (2006.01)
Applicants: ELECTRO SCIENTIFIC INDUSTRIES, INC. [US/US]; 13900 Nw Science Park Drive Portland, OR 97229 (US) (For All Designated States Except US).
PENG, Xiaoyuan [CN/US]; (US) (For US Only).
BAIRD, Brian, W. [US/US]; (US) (For US Only).
JORDENS, William, J. [US/US]; (US) (For US Only).
HEMENWAY, David, Martin [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: PENG, Xiaoyuan; (US).
BAIRD, Brian, W.; (US).
JORDENS, William, J.; (US).
HEMENWAY, David, Martin; (US)
Agent: ANGELLO, Paul, S.; (US)
Priority Data:
12/057,264 27.03.2008 US
Title (EN) LASER MICROMACHINING USING PROGRAMMABLE PULSE SHAPES
(FR) MICRO-USINAGE LASER AU MOYEN DE FORMES D'IMPULSIONS PROGRAMMABLES
Abstract: front page image
(EN)Laser pulse shaping techniques produce tailored laser pulse spectral output (64, 66). The laser pulses can be programmed to have desired pulse widths and pulse shapes (such as sub-nanosecond to 10 ns 20 ns pulse widths with 1 ns to several nanoseconds leading edge rise times). Preferred embodiments are implemented with one or more electro-optical modulators (250, 254) receiving drive signals that selectively change the amount of incident pulsed laser emission (106, 112, 114) to form a tailored pulse output. Triggering the drive signal from the pulsed laser emission suppresses jitter associated with other stages of the link processing system and substantially removes jitter associated with pulsed laser emission build up time.
(FR)L'invention concerne des techniques de mise en forme des impulsions laser qui produisent une sortie (64, 66) spectrale d'impulsion laser sur mesure. Ces impulsions laser peuvent être programmées de manière à avoir des formes et des largeurs d'impulsions souhaitées (telles que des sous-nanosecondes à largeurs d'impulsion comprises entre 10 et 20 ns avec 1 ns à plusieurs nanosecondes de temps de montée du bord d'attaque). Des modes de réalisation préférés sont mis en œuvre au moyen d'un ou plusieurs modulateurs (250, 254) électro-optiques recevant des signaux d'entraînement qui modifient de manière sélective la quantité d'émission laser (106, 112, 114) pulsée incidente afin de former une sortie d'impulsion sur mesure. Le déclenchement du signal d'entraînement de l'émission laser pulsée supprime la gigue associée aux autres étapes du système de traitement de liaison et élimine sensiblement la gigue associée au temps de montée de l'émission laser pulsée.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)