WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2009119937) PLASMA CLEANING APPARATUS FOR A SEMICONDUCTOR PANEL WITH CLEANING CHAMBERS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2009/119937 International Application No.: PCT/KR2008/002448
Publication Date: 01.10.2009 International Filing Date: 30.04.2008
IPC:
B08B 7/00 (2006.01) ,H01L 21/306 (2006.01) ,H01L 21/67 (2006.01)
Applicants: MOON, Yeong Yeop[KR/KR]; KR (UsOnly)
VISIONSEMICON CO., LTD.[KR/KR]; 404-2312, Dong-Yang APT., Sang-Dong Wonmi-Gu Bucheon-si, Gyeonggi-do 420-030, KR (AllExceptUS)
Inventors: MOON, Yeong Yeop; KR
Agent: PARK, Moon Su; Patera Patent & Law Firm 4th Floor, Hyundai Building 175-9, Jamsil-dong Songpa-gu Seoul 138-861, KR
Priority Data:
10-2008-002830727.03.2008KR
Title (EN) PLASMA CLEANING APPARATUS FOR A SEMICONDUCTOR PANEL WITH CLEANING CHAMBERS
(FR) APPAREIL DOTÉ DE CHAMBRES DE NETTOYAGE POUR LE NETTOYAGE PAR PLASMA D'UNE PLAQUE SEMI-CONDUCTRICE
Abstract: front page image
(EN) The present invention relates to plasma cleaning apparatuses for cleaning semiconductor components (a cleaning object or a PCB board) with plasma discharge in a semiconductor fabrication process. More specifically, the present invention relates to a semiconductor plasma cleaning apparatus with cleaning chambers (100) for improving working efficiency by making continuous plasma cleaning of cleaning objects placed in magazines. The semiconductor plasma cleaning apparatus having a plurality of cleaning chambers (100), includes the plurality of cleaning chambers (100) arranged in parallel vertically, an unloading unit (200) movable in up/down direction according to a cleaning progress Situation for transferring magazines having cleaning objects loaded thereon to front of each of the cleaning chambers (100) in succession, a plurality of first pushers (250) mounted to the unloading unit (200) for pushing and discharging the cleaning object loaded in the magazine being transferred by the unloading unit (200) toward the cleaning chamber one by one, a rotatable transfer unit (300) for receiving an empty magazine having all the cleaning objects discharged from the unloading unit (200), rotating the empty magazine by 180 horizontally, and transferring the empty magazine to rear of the plasma cleaning chamber, a loading unit (400) for receiving the empty magazines from the rotatable transfer unit (300), and transferring the empty magazines to rear of each of the plasma cleaning chambers (100) in succession while moving from an lower side to an upper side according to the cleaning progress situation, and a second pusher (500) for pushing and loading the cleaning objects having cleaning thereof finished into the empty magazine at the loading unit (400).
(FR) La présente invention concerne des appareils de nettoyage par plasma utilisés pour nettoyer des composants semi-conducteurs (un objet à nettoyer ou une carte de circuit imprimé) par décharge de plasma dans un procédé de fabrication de semi-conducteurs. Plus particulièrement, la présente invention concerne un appareil de nettoyage de semi-conducteurs par plasma qui présente des chambres de nettoyage (100) et qui permet d'améliorer l'efficacité de l'opération en réalisant un nettoyage continu par plasma d'objets à nettoyer placés dans des magasins. L'appareil de nettoyage de semi-conducteurs par plasma présente plusieurs chambres de  nettoyage (100) agencées verticalement en parallèle, une unité de déchargement (200) qui peut être déplacée vers le haut et vers le bas en fonction de l'état d'avancement du nettoyage, pour transférer des magasins dans lesquels sont chargés les objets à nettoyer successivement devant chacune des chambres de nettoyage (100), plusieurs premiers poussoirs (250) montés sur l'unité de déchargement (200), qui repoussent et déchargent un à un les objets à nettoyer chargés dans les magasins transférés par l'unité de déchargement (200) en direction de la chambre de nettoyage, une unité rotative de transfert (300) qui reçoit de l'unité de déchargement (200) un magasin vide dont tous les objets à nettoyer ont été déchargés, et qui fait tourner le magasin vide de 180° dans la direction horizontale et qui transfère le magasin vide vers l'arrière de la chambre de nettoyage par plasma, une unité de chargement (400) qui reçoit les magasins vides de l'unité rotative de transfert (300) et qui transfère successivement les magasins vides vers l'arrière de chacune des chambres de nettoyage par plasma (100) tout en se déplaçant du côté inférieur vers le côté supérieur en fonction de l'état d'avancement du nettoyage, et un deuxième poussoir (500) qui repousse et charge les objets à nettoyer dont le nettoyage est terminé dans le magasin vide de l'unité de chargement (400).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)