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1. (WO2009119826) PROCESS FOR PRODUCING PLATE MATERIAL AND PLATE MATERIAL
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/119826    International Application No.:    PCT/JP2009/056349
Publication Date: 01.10.2009 International Filing Date: 27.03.2009
IPC:
C03C 15/02 (2006.01), C03B 23/037 (2006.01)
Applicants: THE FURUKAWA ELECTRIC CO., LTD. [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, 1008322 (JP) (For All Designated States Except US).
NAKAMURA, Toshihiro [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: NAKAMURA, Toshihiro; (JP)
Agent: SAKAI, Hiroaki; Sakai International Patent Office, Kasumigaseki Building, 2-5, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1006020 (JP)
Priority Data:
2008-088605 28.03.2008 JP
2008-135546 23.05.2008 JP
2008-181905 11.07.2008 JP
Title (EN) PROCESS FOR PRODUCING PLATE MATERIAL AND PLATE MATERIAL
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN MATÉRIAU EN PLAQUE ET MATÉRIAU EN PLAQUE
(JA) 板材の製造方法および板材
Abstract: front page image
(EN)A process for plate material production which comprises: an original-plate-material preparation step in which an original plate material having a main surface is prepared; and an etching step in which at least part of the original plate material is immersed in an etchant and etched while causing the liquid surface of the etchant to descend on the main surface of the original plate material and controlling the descending rate to a desired value. Preferably, the process further includes, before the etching step, a surface profile measurement step in which the profile of the main surface of the prepared original plate material is measured, and in the etching step, the liquid-surface descending rate is controlled based on the surface profile measured. By this process, the surface profile of a main surface of a plate material can be more easily regulated to a desired profile. Also provided is a plate material.
(FR)Cette invention concerne un procédé de production d'un matériau en plaque qui comprend : une étape de préparation du matériau en plaque original qui consiste à préparer un matériau en plaque original ayant une surface principale ; et une étape de gravure qui consiste à immerger au moins une partie du matériau en plaque original dans un agent de décapage et à le graver tout en faisant en sorte que la surface liquide de l'agent de décapage descende sur la surface principale du matériau en plaque original et à contrôler la vitesse de descente jusqu'à une valeur souhaitée. De préférence, le procédé comprend, en outre, avant l'étape de gravure, une étape de mesure du profil superficiel qui consiste à mesurer le profil de la surface principale du matériau en plaque original préparé, et dans l'étape de gravure, à contrôler la vitesse de descente de la surface liquide en fonction du profil superficiel mesuré. Ainsi, le profil superficiel d'une surface principale d'un matériau en plaque peut être régulé plus facilement jusqu'à un profil souhaité. Un matériau en plaque est également décrit.
(JA) 主表面を有する元板材を準備する元板材準備工程と、前記元板材の少なくとも一部をエッチング液に浸漬し、前記エッチング液の液面が前記元板材の前記主表面上を所望の下降速度で下降するように該下降速度を制御してエッチングを行なうエッチング工程と、を含む。好ましくは、前記エッチング工程の前に前記準備した元板材の前記主表面の形状を測定する表面形状測定工程をさらに含み、前記エッチング工程において、前記測定した表面形状に基づいて前記液面の下降速度を制御する。これによって、板材の主表面の表面形状をより簡易に所望の形状にすることができる板材の製造方法および板材が提供される。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)