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1. (WO2009119655) PLASMA GENERATING APPARATUS AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/119655    International Application No.:    PCT/JP2009/055935
Publication Date: 01.10.2009 International Filing Date: 25.03.2009
IPC:
C23C 14/32 (2006.01), H05H 1/32 (2006.01)
Applicants: Ferrotec Corporation [JP/JP]; 4-14, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo, 1040031 (JP) (For All Designated States Except US).
SHIINA, Yuichi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SHIINA, Yuichi; (JP)
Agent: MIKI, Hisami; Haim-Senba 303, 3-8, Kyutaromachi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka, 5410056 (JP)
Priority Data:
2008-083750 27.03.2008 JP
Title (EN) PLASMA GENERATING APPARATUS AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE GÉNÉRATION DE PLASMA ET APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA
(JA) プラズマ生成装置及びプラズマ処理装置
Abstract: front page image
(EN)Provided is a plasma generating apparatus by which a droplet mixed in plasma can be efficiently removed and surface processing accuracy can be improved in film formation wherein high purity plasma is used. A plasma processing apparatus using such plasma generating apparatus is also provided. A droplet removing section arranged in a plasma traveling path is composed of a straight plasma travelling pipe (P0) connected to a plasma generating section (A); a first plasma traveling pipe (P1) connected to the straight plasma travelling pipe (P0) by being bent; a second plasma travelling pipe (P2) connected to an end of the first plasma travelling pipe (P1) by being diagonally arranged at a prescribed flexion angle with respect to the pipe axis of the first plasma traveling pipe; and a third plasma travelling pipe (P3), which is connected to an end of the second plasma travelling pipe (P2) by being bent and discharges plasma from a plasma discharge port.
(FR)L'invention porte sur un appareil de génération de plasma. Selon l’invention, une gouttelette mélangée dans du plasma peut être efficacement retirée et une précision de traitement de surface peut être améliorée dans une formation de film dans laquelle un plasma de haute pureté est utilisé. L'invention porte également sur un appareil de traitement au plasma utilisant cet appareil de génération de plasma. Une section de retrait de gouttelette disposée dans un trajet de circulation de plasma est constituée par un tuyau de circulation de plasma droit (P0) relié à une section de génération de plasma (A) ; un premier tuyau de circulation de plasma (P1) relié au tuyau de circulation de plasma droit (P0) en étant courbé ; un deuxième tuyau de circulation de plasma (P2) relié à une extrémité du premier tuyau de circulation de plasma (P1) en étant disposé en diagonale selon un angle de flexion prescrit par rapport à l'axe de tuyau du premier tuyau de circulation de plasma ; et un troisième tuyau de circulation de plasma (P3), qui est relié à une extrémité du deuxième tuyau de circulation de plasma (P2) en étant courbé et qui décharge du plasma à partir d'un orifice de décharge de plasma.
(JA) 本発明の目的は、プラズマに混入するドロップレットをより効率的に除去でき、高純度プラズマによる成膜等の表面処理精度の向上を図ることのできるプラズマ生成装置及びそれを用いたプラズマ処理装置を提供することである。  本発明において、プラズマ進行路に設けたドロップレット除去部は、プラズマ発生部Aに連接されたプラズマ直進管P0と、プラズマ直進管P0に屈曲状に連接された第1プラズマ進行管P1と、第1プラズマ進行管P1の終端に、その管軸に対して所定屈曲角で傾斜配置させて連接された第2プラズマ進行管P2と、第2プラズマ進行管P2の終端に屈曲状に連接され、プラズマ出口よりプラズマを排出する第3プラズマ進行管P3とから構成されている。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)