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1. (WO2009119269) PROCESS FOR PRODUCING SURFACE COVERED COMPONENT HAVING EXCELLENT FILM ADHESION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/119269    International Application No.:    PCT/JP2009/054075
Publication Date: 01.10.2009 International Filing Date: 04.03.2009
IPC:
C23C 14/02 (2006.01), C23C 14/06 (2006.01), C23C 14/14 (2006.01)
Applicants: HITACHI METALS, LTD. [JP/JP]; 2-1, Shibaura 1-chome, Minato-ku, Tokyo, 1058614 (JP) (For All Designated States Except US).
HONDA, Fumiaki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
INOUE, Kenichi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: HONDA, Fumiaki; (JP).
INOUE, Kenichi; (JP)
Priority Data:
2008-085938 28.03.2008 JP
Title (EN) PROCESS FOR PRODUCING SURFACE COVERED COMPONENT HAVING EXCELLENT FILM ADHESION
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN COMPOSANT À SURFACE REVÊTUE AYANT UNE EXCELLENTE ADHÉRENCE À UN FILM
(JA) 皮膜密着性に優れた表面被覆部品の製造方法
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a process for producing a surface covered component having an excellent hard film adhesion. The production process comprises covering a physically vapor deposited hard film, preferably a hard film having a surface hardness of not less than 1000 HV, on a surface of a base material. A base material before covering of the film is subjected to metal ion bombardment treatment by arc ion plating. Thereafter, an intermediate metal film is covered by sputtering, and a physically vapor deposited film is then covered as a surface layer. Preferably, the metal used in the metal ion bombardment treatment is titanium, and the intermediate metal film is titanium. Preferably, the physically vapor deposited film is carbon film, and a metal-carbon mixture gradient film, in which the content of the metal is gradually reduced toward the carbon film side, is covered between the carbon film and the intermediate metal film. Further, the carbon film is preferably a diamond-like carbon.
(FR)Le procédé de production ci-décrit permet de produire un composant à surface revêtue ayant une excellente adhérence à un film dur. Le procédé de production comprend l'application d'un film dur en phase gazeuse par un procédé physique, de préférence, un film dur ayant une dureté superficielle égale ou supérieure à 1000 HV, sur une surface d'un matériau de base. Avant dépôt du film, le matériau de base est soumis à un traitement par bombardement d'ions métalliques par placage ionique à l'arc. Après quoi, un film métallique intermédiaire est appliqué par pulvérisation, et un film déposé en phase gazeuse par un procédé physique est ensuite appliqué à titre de couche superficielle. De préférence, le métal utilisé dans le traitement par bombardement d'ions métallique est le titane, et le film métallique intermédiaire est en titane. De préférence, le film déposé en phase vapeur par un procédé physique est un film en carbone, et un film à gradient mixte métal-carbone, la teneur en métal étant progressivement réduite au profit du film en carbone, est appliqué entre le film de carbone et le film métallique intermédiaire. De plus, le film en carbone est, de préférence, à base d'un carbone du type diamant.
(JA) 硬質皮膜の密着性に優れた表面被覆部品の製造方法を提供する。  母材の表面に硬質の物理蒸着皮膜、好ましくは表面硬さが1000HV以上の硬質皮膜を被覆する表面被覆部品の製造方法において、該皮膜を被覆する前の母材には、アークイオンプレーティング法による金属イオンボンバード処理を行った後に、スパッタリング法による中間金属皮膜を被覆し、次いで表面層となる物理蒸着皮膜を被覆する表面被覆部品の製造方法である。前記の金属イオンボンバード処理の金属はチタンであること、そして前記の中間金属皮膜はチタンであることが望ましい。  そして、前記の物理蒸着皮膜は炭素皮膜であり、かつ該炭素皮膜と前記の中間金属皮膜との間には、炭素皮膜側に向かって前記の金属の含有率が漸減する金属と炭素の混合傾斜皮膜を被覆することが望ましい。更には、前記の炭素皮膜はダイヤモンドライクカーボンであることが好ましい。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)