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1. (WO2009067354) PHOTORESIST COMPOSITIONS AND PROCESS FOR MULTIPLE EXPOSURES WITH MULTIPLE LAYER PHOTORESIST SYSTEMS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/067354    International Application No.:    PCT/US2008/083092
Publication Date: 28.05.2009 International Filing Date: 11.11.2008
IPC:
H01L 21/00 (2006.01)
Applicants: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION [US/US]; New Orchard Road, Armonk, NY 10504 (US) (For All Designated States Except US).
HUANG, Wu-song [US/US]; (US) (For US Only).
CHEN, Kuang-jung [US/US]; (US) (For US Only).
VARANASI, Pushkara, Rao [US/US]; (US) (For US Only).
LI, Wai-kin [--/US]; (US) (For US Only)
Inventors: HUANG, Wu-song; (US).
CHEN, Kuang-jung; (US).
VARANASI, Pushkara, Rao; (US).
LI, Wai-kin; (US)
Agent: CAPELLA, Steven; International Business Machines Corporation, Bldg. 321 - M/d 0482, 2070 Route 52, Hopewell Junction, NY 12533 (US)
Priority Data:
11/942,062 19.11.2007 US
Title (EN) PHOTORESIST COMPOSITIONS AND PROCESS FOR MULTIPLE EXPOSURES WITH MULTIPLE LAYER PHOTORESIST SYSTEMS
(FR) COMPOSITIONS PHOTORÉSISTANTES ET PROCÉDÉ PERMETTANT DES EXPOSITIONS MULTIPLES À L'AIDE DE SYSTÈMES PHOTORÉSISTANTS MULTICOUCHES
Abstract: front page image
(EN)A photoresist composition and methods using the photoresist composition in multiple exposure/multiple layer processes. The photoresist composition includes a polymer comprising repeat units having a hydroxyl moiety; a photoacid generator; and a solvent. The polymer when formed on a substrate is substantially insoluble to the solvent after heating to a temperature of about 150 °C or greater. One method includes forming a first photoresist layer (120) on a substrate (110), patternwise exposing the first photoresist layer, forming a second non-photoresist layer on the substrate and patterned first photoresist layer (120A). Another method includes forming a first photoresist layer (120) on a substrate (110), patternwise exposing the first photoresist layer, forming a second photoresist layer (130) on the substrate and patterned first photoresist layer (120A) and patternwise exposing the second photoresist layer.
(FR)La présente invention a trait à une composition photorésistante et à des procédés utilisant la composition photorésistante dans des processus d'expositions multiples/multicouches. La composition photorésistante inclut un polymère comprenant des unités de répétition ayant un fragment hydroxyle; un générateur photoacide; et un solvant. Lorsqu'il est formé sur un substrat, le polymère est sensiblement insoluble dans le solvant après chauffage à une température d'environ 150 °C ou plus. Un procédé inclut les étapes consistant à former une première couche photorésistante (120) sur un substrat (110), à exposer, à l'aide de motifs, la première couche photorésistante, à former une seconde couche non photorésistante sur le substrat et sur la première couche photorésistante à motifs (120A). Un autre procédé inclut les étapes consistant à former une première couche photorésistante (120) sur un substrat (110), à exposer à l'aide de motifs la première couche photorésistante, à former une seconde couche photorésistante (130) sur le substrat et sur la première couche photorésistante à motifs (120A) et à exposer à l'aide de motifs la seconde couche photorésistante.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)