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1. (WO2009067162) PROCESS USING COLORED MASK COMBINED WITH SELECTIVE AREA DEPOSITION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/067162    International Application No.:    PCT/US2008/012762
Publication Date: 28.05.2009 International Filing Date: 12.11.2008
IPC:
G03F 7/00 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/77 (2006.01)
Applicants: EASTMAN KODAK COMPANY [US/US]; 343 State Street, Rochester, NY 14650-2201 (US) (For All Designated States Except US).
IRVING, Lyn, Marie [US/US]; (US) (For US Only).
FREEMAN, Diane, Carol [US/US]; (US) (For US Only).
COWDERY-CORVAN, Peter, Jerome [US/US]; (US) (For US Only).
YANG, Cheng [CA/US]; (US) (For US Only).
LEVY, David, Howard [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: IRVING, Lyn, Marie; (US).
FREEMAN, Diane, Carol; (US).
COWDERY-CORVAN, Peter, Jerome; (US).
YANG, Cheng; (US).
LEVY, David, Howard; (US)
Common
Representative:
EASTMAN KODAK COMPANY; 343 State Street, Rochester, NY 14650-2201 (US)
Priority Data:
11/986,169 20.11.2007 US
Title (EN) PROCESS USING COLORED MASK COMBINED WITH SELECTIVE AREA DEPOSITION
(FR) MASQUE COLORÉ COMBINÉ AVEC UN DÉPÔT SUR DES ZONES SÉLECTIONNÉES
Abstract: front page image
(EN)The invention relates to a process for forming a structure comprising (a) providing a transparent support; (b) forming a color mask on a first side of the transparent support; (c) applying a first layer comprising a deposition inhibitor material that is sensitive to visible light; (d) patterning the first layer by exposing the first layer through the color mask with visible light to form a first pattern and developing the deposition inhibitor material to provide selected areas of the first layer effectively not having the deposition inhibitor material; and (e) depositing a second layer of functional material over the transparent support; wherein the second layer of functional material is substantially deposited only in selected areas over the transparent support not having the deposition inhibitor material.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'une structure qui consiste (a) à se procurer un support transparent ; (b) à former un masque coloré sur un premier côté du support transparent ; (c) à appliquer une première couche comportant un matériau inhibiteur de dépôt qui est sensible à la lumière visible ; (d) à former un motif sur la première couche en exposant celle-ci à travers le masque coloré à la lumière visible pour former un premier motif et en développant le matériau inhibiteur de dépôt pour fournir des zones sélectionnées de la première couche n'ayant pas, en fait, le matériau inhibiteur de dépôt ; et (e) à déposer une seconde couche de matériau fonctionnel sur le support transparent ; la seconde couche de matériau fonctionnel étant sensiblement déposée uniquement dans les zones sélectionnées sur le support transparent n'ayant pas le matériau inhibiteur de dépôt.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)