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1. (WO2009066390) SPATTERING DEVICE AND SPATTERING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/066390    International Application No.:    PCT/JP2007/072625
Publication Date: 28.05.2009 International Filing Date: 22.11.2007
IPC:
C23C 14/34 (2006.01)
Applicants: Canon ANELVA Corporation [JP/JP]; 2-5-1 Kurigi, Asao-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2158550 (JP) (For All Designated States Except US).
SHIBAMOTO, Masahiro [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YAMANAKA, Kazuto [JP/JP]; (JP) (For US Only).
JIMBA, Hitoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
DJAYAPRAWIRA, David Djulianto [ID/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: SHIBAMOTO, Masahiro; (JP).
YAMANAKA, Kazuto; (JP).
JIMBA, Hitoshi; (JP).
DJAYAPRAWIRA, David Djulianto; (JP)
Agent: OKABE, Masao; No. 602, Fuji Bldg., 2-3 Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1000005 (JP)
Priority Data:
Title (EN) SPATTERING DEVICE AND SPATTERING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE PROJECTION ET PROCÉDÉ DE PROJECTION
(JA) スパッタ装置およびスパッタ方法
Abstract: front page image
(EN)A spattering device comprises a substrate holding means for holding a substrate, and gas introduction channels disposed at plural positions surrounding the substrate and having gas jetting-out holes. The spattering device is characterized in that a gas introduction connection hole is provided in at least one gas introduction channel, and the numbers of the gas jetting-out holes provided in at least one gas introduction channel in which the gas introduction connection hole is provided is smaller than that of the gas jetting-out holes provided in the gas introduction channel in which the gas introduction connection hole is not provided, or the diameter of the gas jetting-out hole provided in at least one gas introduction channel in which the gas introduction hole is provided is smaller than that of the gas jetting-out holes provided in the gas introduction channel in which the gas introduction connection hole is not provided.
(FR)L'invention concerne un dispositif de projection comprenant des moyens de support de substrat pour supporter un substrat et des canaux d'introduction de gaz disposés en plusieurs positions entourant le substrat et pourvus de trous d'éjection de gaz. Le dispositif de projection est caractérisé en ce qu'un trou de connexion d'introduction de gaz est disposé dans au moins un canal d'introduction de gaz et en ce que le nombre des trous d'éjection de gaz élaborés dans au moins un canal d'introduction de gaz dans lequel le trou de connexion d'introduction de gaz est disposé est plus petit que celui des trous d'éjection de gaz élaborés dans le canal d'introduction de gaz dans lequel le trou de connexion d'introduction de gaz n'est pas disposé, ou en ce que le diamètre du trou d'éjection de gaz élaboré dans au moins un canal d'introduction de gaz dans lequel le trou d'introduction de gaz est disposé est plus petit que celui des trous d'éjection de gaz élaborés dans le canal d'introduction de gaz dans lequel le trou de connexion d'introduction de gaz n'est pas disposé.
(JA) 本発明に従ったスパッタ装置は、基板を保持する基板保持手段、及び基板の周囲を囲む複数の位置に配置された、ガス噴出口を有するガス導入経路を有し、ガス導入接続口が少なくとも1つのガス導入経路上に設けられており、ガス導入接続口が設けられた少なくとも1つのガス導入経路に設けたガス噴出口数は、ガス導入接続口が設けられていないガス導入経路に設けたガス噴出口数より少であること、又は、ガス導入接続口が設けられた少なくとも1つのガス導入経路に設けたガス噴出口の口径は、ガス導入接続口が設けられていないガス導入経路に設けたガス噴出口の口径より小さいことを特徴とする。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)