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1. (WO2009063887) POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, POSITIVE PERMANENT RESIST, AND METHOD FOR PRODUCING POSITIVE PERMANENT RESIST
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/063887    International Application No.:    PCT/JP2008/070553
Publication Date: 22.05.2009 International Filing Date: 12.11.2008
IPC:
G03F 7/075 (2006.01), C08G 77/16 (2006.01), G03F 7/023 (2006.01), G03F 7/40 (2006.01)
Applicants: ADEKA CORPORATION [JP/JP]; 2-35, Higashiogu 7-chome, Arakawa-ku, Tokyo 1160012 (JP) (For All Designated States Except US).
MORITA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SATO, Hiromi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KOBAYASHI, Atsushi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OMI, Jinichi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SAITO, Seiichi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MORITA, Hiroshi; (JP).
SATO, Hiromi; (JP).
KOBAYASHI, Atsushi; (JP).
OMI, Jinichi; (JP).
SAITO, Seiichi; (JP)
Agent: HONDA, Ichiro; 6th Floor, Ikeden Building, 12-5, Shimbashi 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1050004 (JP)
Priority Data:
2007-294503 13.11.2007 JP
Title (EN) POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, POSITIVE PERMANENT RESIST, AND METHOD FOR PRODUCING POSITIVE PERMANENT RESIST
(FR) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE POSITIVE, RÉSERVE PERMANENTE POSITIVE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE RÉSERVE PERMANENTE POSITIVE
(JA) ポジ型感光性組成物、ポジ型永久レジスト及びポジ型永久レジストの製造方法
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a positive photosensitive composition which enables to obtain an insulating layer having not only high transparency but also heat resistance sufficient for withstanding the temperature at the time of substrate production, solvent resistance and excellent resistance to change over time as a permanent resist. Also disclosed are a positive permanent resist using such a positive photosensitive composition, and a method for producing a positive permanent resist. Specifically disclosed is a positive photosensitive composition containing a curable silicone resin (A) having a silanol group and a structure obtained by reacting one or more cyclic siloxane compounds represented by the general formula (1) below with one or more arylalkoxysilane compounds represented by the general formula (2) below, a diazonaphthoquinone (B) and a solvent (C). Also specifically disclosed are a positive permanent resist using such a positive photosensitive composition, and a method for producing a positive permanent resist.
(FR)La présente invention a pour objet une composition photosensible positive qui permet d'obtenir une couche d'isolation faisant office de réserve permanente ayant non seulement une transparence élevée mais également une résistance à la chaleur suffisante pour supporter la température au moment de la fabrication d'un substrat, une résistance aux solvants et une excellente résistance aux changements au fil du temps. La présente invention a également pour objet une réserve permanente positive utilisant une telle composition photosensible positive, ainsi qu'un procédé de production d'une réserve permanente positive. Plus précisément, l'invention concerne une composition photosensible positive contenant une résine de silicone durcissable (A) ayant un groupe silanol et une structure obtenue en déclenchant une réaction d'un ou plusieurs composés de siloxane cyclique, représentés par la formule générale (1) ci-dessous, à un ou plusieurs composés d'arylalkoxysilane, représentés par la formule générale (2) ci-dessous, une diazonaphthoquinone (B) et un solvant (C). En outre, l'invention concerne spécifiquement une réserve permanente positive utilisant une telle composition photosensible positive et un procédé de fabrication d'une réserve permanente positive.
(JA) 透明性が高いだけでなく、基板製作時の温度に耐えられる耐熱性、耐溶剤性、さらには永久レジストとしての耐経時変化性に優れた絶縁層を与えることのできるポジ型感光性組成物、このポジ型感光性組成物を用いたポジ型永久レジスト及びポジ型永久レジストの製造方法を提供する。  下記一般式(1)、 で表される環状シロキサン化合物の1種以上と、下記一般式(2)、 で表されるアリールアルコキシシラン化合物の1種以上と、を反応させて得られる構造の、(A)シラノール基を有する硬化性シリコーン樹脂、(B)ジアゾナフトキノン類、及び(C)溶剤、を含有するポジ型感光性組成物、このポジ型感光性組成物を用いたポジ型永久レジスト及びポジ型永久レジストの製造方法である。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)