WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Machine translation
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/063863    International Application No.:    PCT/JP2008/070502
Publication Date: 22.05.2009 International Filing Date: 11.11.2008
G01B 9/02 (2006.01), G01B 11/24 (2006.01)
Applicants: HAMAMATSU PHOTONICS K.K. [JP/JP]; 1126-1, Ichino-cho, Higashi-ku, Hamamatsu-shi, Shizuoka 4358558 (JP) (For All Designated States Except US).
YAMAUCHI, Toyohiko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
IWAI, Hidenao [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: YAMAUCHI, Toyohiko; (JP).
IWAI, Hidenao; (JP)
Agent: HASEGAWA, Yoshiki; SOEI PATENT AND LAW FIRM Ginza First Bldg., 10-6, Ginza 1-chome Chuo-ku, Tokyo 1040061 (JP)
Priority Data:
2007-298019 16.11.2007 JP
(JA) 干渉測定装置
Abstract: front page image
(EN)An interference measuring device (1) comprises light sources (11 and 12), lenses (21 to 25), an aperture (31), an optical multiplexer (41), an optical branching filter (42), a half mirror (43), an imaging unit (51), an analyzing unit (52), a light receiving unit (61), a displacement detecting unit (62), a piezo-actuator (71), a drive unit (72), a mirror (73), a stage (81), a drive unit (82) and a control unit (90). On the basis of an optical path length difference detection result by the displacement detecting unit (62), the control unit (90) controls the optical path length difference adjusting operations by the piezoelectric actuator (71) and the stage (81) through the drive units (72 and 82) so that the optical path length difference may become a plurality of target values sequentially. In the moving operation by the stage (81), too, the control unit (90) subjects the moving operation by the piezoelectric actuator (71) to a feedback control so that the optical path length difference may become each of the target values.
(FR)L'invention concerne un dispositif de mesure d'interférences (1) comprenant des sources de lumière (11 et 12), des lentilles (21 à 25), une ouverture (31), un multiplexeur optique (41), un filtre de séparation optique (42), un demi-miroir (43), une unité d'imagerie (51), une unité d'analyse (52), une unité photoréceptrice (61), une unité de détection de déplacement (62), un actionneur piézoélectrique (71), une unité d'entraînement (72), un miroir (73), un étage (81), une unité d'entraînement (82) et une unité de commande (90). Sur la base d'une différence entre des longueurs de trajet optique obtenue grâce à l'unité de détection (62), l'unité de commande (90) commande des opérations d'ajustement de la différence entre les longueurs de trajet optique par l'actionneur piézoélectrique (71) et l'étage (81) par l'intermédiaire des unités d'entraînement (72 et 82) pour que la différence entre les longueurs de trajet optique devienne successivement une pluralité de valeurs cibles. De plus, lors de l'opération de déplacement par l'étage (81), l'unité de commande (90) soumet l'opération de déplacement par l'actionneur piézoélectrique (71) à un rétrocontrôle pour que la différence entre les longueurs de trajet optique puisse devenir chacune des valeurs cible.
(JA) 干渉測定装置1は、光源11,12、レンズ21~25、アパーチャ31、光合波器41、光分波器42、ハーフミラー43、撮像部51、解析部52、受光部61、変位検出部62、ピエゾアクチュエータ71、駆動部72、ミラー73、ステージ81、駆動部82および制御部90を備える。制御部90は、変位検出部62による光路長差検出結果に基づいて、光路長差が複数の目標値に順次になるように、駆動部72,82を介してピエゾアクチュエータ71およびステージ81による光路長差調整動作を制御する。制御部90は、ステージ81による移動動作の際にも、光路長差が各目標値になるようにピエゾアクチュエータ71による移動動作をフィードバック制御する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)