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1. (WO2009063532) ALUMINUM ETCHED PLATE FOR ELECTROLYTIC CAPACITOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/063532    International Application No.:    PCT/JP2007/001241
Publication Date: 22.05.2009 International Filing Date: 14.11.2007
IPC:
H01G 9/04 (2006.01), C23F 1/20 (2006.01), H01G 9/00 (2006.01)
Applicants: NIPPON LIGHT METAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 2-20, Higashi-Shinagawa 2-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1408628 (JP) (For All Designated States Except US).
KATANO, Masahiko [JP/JP]; (JP) (For US Only).
ISOBE, Masashi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KOBAYASHI, Takayuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YOSHIDA, Yuya [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KATANO, Masahiko; (JP).
ISOBE, Masashi; (JP).
KOBAYASHI, Takayuki; (JP).
YOSHIDA, Yuya; (JP)
Agent: YOKOZAWA, Shiro; 1132-18, Shimadachi Matsumoto-shi Nagano 3900852 (JP)
Priority Data:
Title (EN) ALUMINUM ETCHED PLATE FOR ELECTROLYTIC CAPACITOR
(FR) PLAQUE GRAVÉE EN ALUMINIUM POUR CONDENSATEUR ÉLECTROLYTIQUE
(JA) 電解コンデンサ用アルミニウムエッチド板
Abstract: front page image
(EN)In the production of an aluminum etched plate for an electrolytic capacitor, which has a high etching ratio and can realize a high level of capacitance even when a solid electrolyte is impregnated, an aluminum plate having an aluminum purity of not less than 99.98% by mass is electrochemically etched by an alternating current to provide an aluminum etched plate (1) for an electrolytic capacitor, having a bulk specific gravity of 0.6 to 1.2 in its etching site (3). In the etching site (3), the planar section at a position, which is deeper than 20 &mgr;m from the surface, is measured by an image analyzer. In this case, in each measuring plane, the number of pits having a diameter of 0.01 to 1 &mgr;m&phis; in terms of a circle is not less than 70% of the total number of pits within the measuring plane, the etching ratio is high, and a high level of capacitance can be provided even when a solid electrolyte is impregnated.
(FR)Selon l'invention, dans la production d'une plaque gravée en aluminium pour un condensateur électrolytique, qui a un rapport de gravure élevé et peut réaliser un haut niveau de capacité même lorsqu'un électrolyte solide est imprégné, une plaque d'aluminium ayant une pureté d'aluminium non inférieure à 99,98 % en masse est gravée de façon électrochimique par un courant alternatif pour former une plaque gravée en aluminium (1) pour un condensateur électrolytique, ayant une densité apparente de 0,6 à 1,2 dans son site de gravure (3). Dans le site de gravure (3), la section plane en une position à plus de 20 µm de profondeur par rapport à la surface est mesurée par un analyseur d'image. Dans ce cas, dans chaque plan de mesure, le nombre de cuvettes ayant un diamètre de 0,01 à 1 &mgr;m&phis; en termes de cercle n'est pas inférieur à 70 % du nombre total de cuvettes dans le plan de mesure, le rapport de gravure est élevé, et un haut niveau de capacité peut être obtenu même lorsqu'un électrolyte solide est imprégné.
(JA) エッチング倍率が高く、かつ、固体電解質を含浸した場合でも高い静電容量を得ることができる電解コンデンサ用アルミニウムエッチド板を製造するにあたって、アルミニウム純度が99.98質量%以上のアルミニウム板に対して、交流による電気化学的エッチングを行い、エッチング部位(3)の嵩比重が0.6~1.2である電解コンデンサ用アルミニウムエッチド板(1)を得る。エッチング部位(3)は、表面から20μmより深い位置の平面断面を画像解析装置で測定したとき、各測定面において、円形に換算したときのピット径で0.01~1μmφのピット数が当該測定面内における全ピット数の70%以上存在しており、エッチング倍率が高く、かつ、固体電解質を含浸した場合でも高い静電容量を得ることができる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)