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1. (WO2009062969) DEVICE AND METHOD FOR MEASURING ELECTROSTATIC CHARGES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/062969    International Application No.:    PCT/EP2008/065408
Publication Date: 22.05.2009 International Filing Date: 12.11.2008
IPC:
G01R 29/24 (2006.01), G03F 1/00 (2012.01)
Applicants: SEBALD, Thomas [DE/DE]; (DE)
Inventors: SEBALD, Thomas; (DE)
Agent: LIPPERT, STACHOW & PARTNER; Krenkelstrasse 3, 01309 Dresden (DE)
Priority Data:
10 2007 054 235.8 12.11.2007 DE
Title (DE) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM MESSEN ELEKTROSTATISCHER LADUNGEN
(EN) DEVICE AND METHOD FOR MEASURING ELECTROSTATIC CHARGES
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ POUR MESURER DES CHARGES ÉLECTROSTATIQUES
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Messen elektrostatischer Ladungen im Handhabungsbereich von Photomasken unter realen Produktionsbedingungen, sowie zur Aufzeichnung der Messdaten in einem Datenlogger zur späteren Weiterverwendung. Durch die Erfindung sollen eine Mess-Vorrichtung sowie ein Verfahren zur Messung und Speicherung elektrostatischer Aufladungen während des gesamten Handhabungsprozesses von Photomasken geschaffen werden, um nachträglich die Orte bzw. den Zeitpunkt des Eintrages elektrostatischer Ladungen in die Messvorrichtung zu bestimmen. Erreicht wird das dadurch, dass das Gehäuse (1) der äußeren Form einer üblichen Produktions-Photomaske mit identischen Abmessungen nachgebildet ist, dass das Gehäuse (1) zwei parallel und beabstandet zueinander auf einem Rahmen (2) angeordnete und aus einem Isolator bestehende Platten (3, 4) aufweist, dass auf einer der Platten (3; 4) mindestens zwei voneinander isolierte elektrisch leitende Sensorflächen (5a, 5b, 5c, 5d) nebeneinander auf der Außenseite der Platte (3) angeordnet sind, und dass die elektrisch leitenden Sensorflächen (5a, 5b, 5c, 5d) mit einer Auswerte- und Speicherschaltung (6) im inneren des Gehäuses (1) indirekt gekoppelt sind.
(EN)The invention relates to a device and a method for measuring electrostatic charges in the handling area of photomasks under real production conditions, and for recording the measured data in a data logger for later further use. A measuring device and a method for measuring and storing electrostatic charges during the entire handling process of photomasks is to be provided by the invention, in order to later determine the locations and/or the times of the introduction of electrostatic charges into the measuring device. This is achieved in that the housing (1) simulates the external shape of a typical production photomask having identical dimensions, the housing (1) has two plates (3, 4), which are situated parallel and at a distance to one another on a frame (2) and comprise an insulator, on one of the plates (3, 4) at least two electrically conductive sensor surfaces (5a, 5b, 5c, 5d), which are electrically insulated from one another, are situated adjacent to one another on the outside of the plate (3), and the electrically conductive sensor surfaces (5a, 5b, 5c, 5d) are coupled indirectly to an analysis and storage circuit (6) in the interior of the housing (1).
(FR)L'invention concerne un dispositif et un procédé pour mesurer des charges électrostatiques dans la zone de manipulation de photomasques sous des conditions de production réelles et enregistrer des données de mesure dans un journal de données en vue de leur réutilisation ultérieure. L'invention réalise un dispositif de mesure ainsi qu'un procédé pour mesurer et mémoriser des charges électrostatiques pendant la totalité du processus de manipulation des photomasques afin de déterminer ensuite les emplacements ou le moment de l'induction des charges électrostatiques dans le dispositif de mesure. Le boîtier (1) simule la forme extérieure d'un photomasque de production habituel aux dimensions identiques, le boîtier (1) présente dans plaques (3, 4) disposées parallèlement l'une à l'autre et espacées l'une de l'autre sur un cadre (2) et composées d'un isolateur, au moins deux surfaces de détection (5a, 5b, 5c, 5d) électriquement conductrices et isolées l'une de l'autre sont disposées sur l'une des plaques (3, 4) l'une à côté de l'autre sur le côté extérieur de la plaque (3) et les surfaces de détection (5a, 5b, 5c, 5d) électriquement conductrices sont connectées indirectement à un circuit d'interprétation et de mémorisation (6) à l'intérieur du boîtier (1).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)