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Pub. No.:    WO/2009/062140    International Application No.:    PCT/US2008/082960
Publication Date: 14.05.2009 International Filing Date: 10.11.2008
G02B 1/11 (2006.01), B29D 11/00 (2006.01)
Applicants: SAGER, Brian, M. [US/US]; (US).
SHEATS, James, R. [US/US]; (US)
Inventors: SAGER, Brian, M.; (US).
SHEATS, James, R.; (US)
Agent: TUNG, Hao, Y.; 5521 Hellyer Avenue, San Jose, CA 95138 (US)
Priority Data:
60/986,442 08.11.2007 US
60/987,766 13.11.2007 US
Abstract: front page image
(EN)Methods and devices are provided for improved anti-reflective coatings. Non- vacuum deposition of transparent conductive electrodes in a roll-to-roll manufacturing environment is disclosed. In one embodiment of the present invention, a device is provided comprising a multi-layer anti-reflective coating formed over a substantially transparent substrate; wherein the multi-layer anti-reflective coating comprises of a plurality of nanostructured layers, wherein each of the layers has a tuned porosity and at least some of the nanostructured layers have different porosities to create a different index of refraction for those layers. In some embodiments, the absorber layer for use with this anti-reflective layer is a group IB-IIIA-VIA absorber layer.
(FR)L'invention porte sur des procédés et sur des dispositifs pour des revêtements anti-réfléchissants améliorés. L'invention porte également sur un dépôt sans vide d'électrodes conductrices transparentes dans un environnement de fabrication rouleau à rouleau. Dans un mode de réalisation, la présente invention porte sur un dispositif incluant un revêtement anti-réfléchissant à couches multiples formé sur un substrat sensiblement transparent, le revêtement anti-réfléchissant à couches multiples étant constitué d'une pluralité de couches nanostructurées, chacune des couches présentant une porosité réglée et au moins certaines des couches nanostructurées présentant des porosités différentes afin de créer un indice de réfraction différent pour ces couches. Dans certains modes de réalisation, la couche absorbante destinée à être utilisée avec cette couche anti-réfléchissante est une couche absorbante des groupes IB-IIIA-VIA.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)