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1. (WO2009062055) FREE-STANDING TWO-SIDED DEVICE FABRICATION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/062055    International Application No.:    PCT/US2008/082827
Publication Date: 14.05.2009 International Filing Date: 07.11.2008
Chapter 2 Demand Filed:    04.09.2009    
IPC:
G01R 31/26 (2006.01)
Applicants: UNIVERSITY OF WASHINGTON [US/US]; 4311 11th Avenue NE, Suite 500 Seattle, WA 98105-4608 (US) (For All Designated States Except US).
KIM, Samuel [US/US]; (US) (For US Only).
AMIRPARVIZ, Babak [IR/US]; (US) (For US Only)
Inventors: KIM, Samuel; (US).
AMIRPARVIZ, Babak; (US)
Agent: LAWSON, L., Rhys; Christensen O'connor Johnson Kindness PLLC 1420 Fifth Avenue, Suite 2800 Seattle, WA 98101 (US)
Priority Data:
60/986,197 07.11.2007 US
Title (EN) FREE-STANDING TWO-SIDED DEVICE FABRICATION
(FR) FABRICATION D'UN DISPOSITIF À DEUX FACES AUTONOME
Abstract: front page image
(EN)Devices having features deposited on two sides of a device substrate and methods for making the same. The devices are useful, for example, as the components in a macroelectronic system. In a preferred embodiment, the devices are photosensors having a plurality of electrodes patterned on a first side of the device and an electromagnetic interference filter patterned on a second side of the device. The method facilitates the fabrication of two-sided devices through the use of an immobilizing layer deposited on top of devices patterned on a first side of a device substrate; flipping the device substrate; processing the second side of the device substrate to produce patterned features on the second side of the device substrate; and releasing the devices having patterned elements on two sides of each device.
(FR)L'invention concerne des dispositifs ayant des caractéristiques déposées sur deux faces d'un substrat de dispositif et leurs procédés de fabrication. Les dispositifs sont utiles, par exemple, en tant que composants dans le système macro-électronique. Dans un mode de réalisation préféré, les dispositifs sont des photocapteurs ayant une pluralité d'électrodes formées sur un premier côté du dispositif et un filtre d'interférence électromagnétique formé sur un second côté du dispositif. Le procédé consiste à fabriquer un dispositif à deux faces grâce à l'utilisation d'une couche d'immobilisation déposée au-dessus de dispositifs formés sur une première face d'un substrat de dispositif; retourner le substrat de dispositif; traiter le second côté du substrat de dispositif pour produire des caractéristiques formées sur la seconde face du substrat de dispositif; et libérer les dispositifs ayant des éléments formés sur les deux faces de chaque dispositif.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)