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1. (WO2009061738) GAS MIXING SWIRL INSERT ASSEMBLY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/061738    International Application No.:    PCT/US2008/082366
Publication Date: 14.05.2009 International Filing Date: 04.11.2008
IPC:
C23C 16/06 (2006.01), H01L 21/00 (2006.01), C23C 16/455 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; P.O. Box 450A, Santa Clara, California 95052 (US) (For All Designated States Except US).
SUAREZ, Edwin, C. [US/US]; (US) (For US Only).
JANAKIRAMAN, Karthik [IN/US]; (US) (For US Only).
GEE, Paul, Edward [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: SUAREZ, Edwin, C.; (US).
JANAKIRAMAN, Karthik; (US).
GEE, Paul, Edward; (US)
Agent: BERNARD, Eugene; Townsend and Townsend and Crew LLP, 1200 17th Street, Suite 2700, Denver, Colorado 80202, (US)
Priority Data:
60/986,923 09.11.2007 US
12/251,323 14.10.2008 US
Title (EN) GAS MIXING SWIRL INSERT ASSEMBLY
(FR) ENSEMBLE INSERT POUR TOURBILLON DE MÉLANGE DE GAZ
Abstract: front page image
(EN)A gas mixing system for a semiconductor wafer processing chamber including a gas mixing chamber concentrically aligned with a gas transport tube that extends to a blocker plate. The gas mixing chamber and the transport tube are separated by a porous barner that increases a duration of gas mixing in the gas mixing chamber before processes gases migrate into the transport tube. The gas mixing insert having a top section with a first diameter and a second section with a second diameter smaller than the first diameter and concentrically aligned with the top section. The processes gases enter the top section of the insert and follow channels through the second section that cause the gases to mix and swirl in the gas mixing chamber. The second section extends into the gas mixing chamber while leaving space for the mixing and swirling around the sidewalls and bottom of the mixing chamber.
(FR)L'invention concerne un système de mélange de gaz destiné à une chambre de traitement de tranches de semiconducteur et comprenant une chambre de mélange des gaz alignée concentriquement avec un tube de transport de gaz qui s'étend jusqu'à une plaque-arrêtoir. La chambre de mélange des gaz et le tube de transport sont séparés par une barrière poreuse qui augmente la durée de mélange de gaz dans la chambre de mélange des gaz avant que les gaz de process migrent dans le tube de transport. L'insert de mélange de gaz est doté d'une section supérieure présentant un premier diamètre et d'une deuxième section présentant un deuxième diamètre inférieur au premier diamètre et alignée concentriquement avec la section supérieure. Les gaz de process pénètrent dans la section supérieure de l'insert et suivent des canaux traversant la deuxième section, ce qui amène les gaz à se mélanger et à tourbillonner dans la chambre de mélange des gaz. La deuxième section s'étend jusque dans la chambre de mélange des gaz tout en laissant un espace pour le mélange et le mouvement tourbillonnant autour des parois latérales et du fond de la chambre de mélange.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)