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1. (WO2009061188) METHOD AND SYSTEM FOR DETERMINING A SUPPRESSION FACTOR OF A SUPPRESSION SYSTEM AND A LITHOGRAPHIC APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/061188    International Application No.:    PCT/NL2008/050700
Publication Date: 14.05.2009 International Filing Date: 06.11.2008
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: ASML Netherlands B.V. [NL/NL]; De Run 6501, NL-5504 DR Veldhoven (NL) (For All Designated States Except US).
SCHIMMEL, Hendrikus Gijsbertus [NL/NL]; (NL) (For US Only).
VAN EMPEL, Tjarko Adriaan Rudolf [NL/NL]; (NL) (For US Only).
SWINKELS, Gerardus Hubertus Petrus Maria [NL/NL]; (NL) (For US Only).
HAAST, Marc Antonius Maria [NL/NL]; (NL) (For US Only).
LABETSKI, Dzmitry [BY/NL]; (NL) (For US Only).
FRERIKS, Johannes Maria [NL/NL]; (NL) (For US Only).
VAN DE VIJVER, Yuri Johannes Gabriël [NL/NL]; (NL) (For US Only).
VERSTEEG, Wendelin Johanna Maria [NL/NL]; (NL) (For US Only).
JONKERS, Peter Gerardus [NL/NL]; (NL) (For US Only)
Inventors: SCHIMMEL, Hendrikus Gijsbertus; (NL).
VAN EMPEL, Tjarko Adriaan Rudolf; (NL).
SWINKELS, Gerardus Hubertus Petrus Maria; (NL).
HAAST, Marc Antonius Maria; (NL).
LABETSKI, Dzmitry; (NL).
FRERIKS, Johannes Maria; (NL).
VAN DE VIJVER, Yuri Johannes Gabriël; (NL).
VERSTEEG, Wendelin Johanna Maria; (NL).
JONKERS, Peter Gerardus; (NL)
Agent: SLENDERS, Petrus, Johannes, Waltherus; ASML Corporate Intellectual Property P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Priority Data:
60/996,281 08.11.2007 US
Title (EN) METHOD AND SYSTEM FOR DETERMINING A SUPPRESSION FACTOR OF A SUPPRESSION SYSTEM AND A LITHOGRAPHIC APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ ET SYSTÈME DE DÉTERMINATION D'UN FACTEUR DE SUPPRESSION D'UN SYSTÈME DE SUPPRESSION, ET APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Abstract: front page image
(EN)The invention relates to a method for determining a suppression factor of a suppression system. The suppression system is arranged to suppress migration of a contaminant gas out of a first system. The suppression factor is an indication of the performance of the suppression system. The method includes introducing a tracer gas in the sub-system, providing a detection system configured to detect the amount of tracer gas that has migrated out of the first system, determining a first suppression factor for the suppression system for the tracer gas. The method further includes determining a second suppression factor for the suppression system for the contaminant gas based on the first suppression factor.
(FR)L'invention concerne un procédé de détermination d'un facteur de suppression d'un système de suppression. Le système de suppression est adapté pour supprimer la migration d'un gaz contaminant hors d'un premier système. Le facteur de suppression est une indication de la performance du système de suppression. Le procédé consiste à: introduire un gaz de dépistage dans le sous-système; mettre en oeuvre un système de détection configuré pour détecter la quantité de gaz de dépistage qui a migré hors du premier système; déterminer un premier facteur de suppression du système de suppression pour le gaz de dépistage. Le procédé consiste en outre à déterminer, sur la base du premier facteur de suppression, un second facteur de suppression du système de suppression pour le gaz contaminant.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)