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1. (WO2009060943) PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR TRANSFERRING PROCESSING MATERIAL
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/060943    International Application No.:    PCT/JP2008/070314
Publication Date: 14.05.2009 International Filing Date: 07.11.2008
IPC:
H01L 21/677 (2006.01), B65G 49/07 (2006.01)
Applicants: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (For All Designated States Except US).
KISHIMOTO, Katsushi; (For US Only).
FUKUOKA, Yusuke; (For US Only).
TANIGAWA, Nobuyuki; (For US Only)
Inventors: KISHIMOTO, Katsushi; .
FUKUOKA, Yusuke; .
TANIGAWA, Nobuyuki;
Agent: NOGAWA, Shintaro; Nogawa Patent Office Minamimorimachi Park Bldg. 1-3, Nishitenma 5-chome Kita-ku, Osaka-shi Osaka 5300047 (JP)
Priority Data:
2007-291183 08.11.2007 JP
Title (EN) PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR TRANSFERRING PROCESSING MATERIAL
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA ET PROCÉDÉ POUR TRANSFÉRER UN MATÉRIAU DE TRAITEMENT
(JA) プラズマ処理装置および被処理物搬送方法
Abstract: front page image
(EN)Provided is a plasma processing apparatus by which floating accuracy of processing material is stabilized and desired plasma processing is performed to the processing material. A guide plate (7) has 112 circular gas jetting ports (8) in total in 16 rows arranged in a direction parallel to a transfer direction. Each row has seven circular gas jetting ports in a direction orthogonally intersecting with the transfer direction. The 112 gas jetting ports (8) are separated into eight independent strip-like jetting port groups (9) by every two rows of 14 jetting ports. A control functional section controls a floating gas to be sequentially jetted from the gas jetting ports (8) of the jetting port group (9) relating to floating of the processing material (5, 6) in a processing material carry-in chamber (1), a plasma processing chamber (2) and a processing material carry-out chamber (3). The control functional section also controls to sequentially stop jetting of the floating gas from the gas jetting ports (8) of the jetting hole group (9) which stopped to relate to floating of the processing material (5, 6).
(FR)L'invention concerne un appareil de traitement au plasma par lequel la précision de flottement du matériau de traitement est stabilisée et un traitement au plasma souhaité est appliqué au matériau de traitement. Une plaque de guidage (7) comporte 112 orifices d'éjection de gaz (8) circulaires agencés en 16 rangées au total dans une direction parallèle à une direction de transfert. Chaque rangée comporte sept orifices d'éjection de gaz circulaires dans une direction croisant orthogonalement la direction de transfert. Les 112 orifices d'éjection de gaz (8) sont séparés en huit groupes d'orifices d'éjection (9) indépendants en forme de bandes, par une rangée sur deux de 14 orifices d'éjection. Une section fonctionnelle de commande entraîne un gaz flottant devant être éjecté séquentiellement des orifices d'éjection de gaz (8) du groupe d'orifices d'éjection (9) associé au flottement du matériau de traitement (5, 6) dans une chambre d'entrée de matériau de traitement (1), une chambre de traitement au plasma (2) et une chambre de sortie de matériau de traitement (3). La section fonctionnelle de commande entraîne également l'arrêt séquentiel de l'éjection du gaz flottant des orifices d'éjection de gaz (8) du groupe de trous d'éjection (9) qui n'est plus associé au flottement du matériau de traitement (5, 6).
(JA) 被処理物の浮上精度を安定したものにすることができるとともに、被処理物に対して所望のプラズマ処理を行うことができるプラズマ処理装置を提供すること。  ガイドプレート7には、搬送方向に直交する方向へ1列に7個、搬送方向に平行な方向へ16列に配置された合計112個の円形ガス噴出孔8が形成されている。112個のガス噴出孔8は、2列である14個ごとに独立した8つの帯状噴出孔群9に分けられている。制御機能部は、被処理物搬入室1、プラズマ処理室2および被処理物搬出室3における被処理物5,6の浮上に関与している噴出孔群9のガス噴出孔8から浮上用ガスを順次噴出させるとともに、被処理物5,6の浮上に関与しなくなった噴出孔群9ガス噴出孔8からの浮上用ガスの噴出を順次停止する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)