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1. (WO2009060908) PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, CURED PRODUCT PATTERN, AND PRINTED WIRING BOARD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/060908    International Application No.:    PCT/JP2008/070229
Publication Date: 14.05.2009 International Filing Date: 06.11.2008
IPC:
G03F 7/027 (2006.01), C08F 2/50 (2006.01), C08F 290/06 (2006.01), C08G 59/16 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/029 (2006.01), G03F 7/031 (2006.01), H05K 3/28 (2006.01)
Applicants: TAIYO INK MFG. CO., LTD. [JP/JP]; 2-7-1, Hazawa, Nerima-ku, Tokyo 1768508 (JP) (For All Designated States Except US).
ITO, Nobuhito [JP/JP]; (For US Only).
KATO, Kenji [JP/JP]; (For US Only).
ARIMA, Masao [JP/JP]; (For US Only).
SHIINA, Touko [JP/JP]; (For US Only)
Inventors: ITO, Nobuhito; .
KATO, Kenji; .
ARIMA, Masao; .
SHIINA, Touko;
Agent: SUZUYE, Takehiko; c/o SUZUYE & SUZUYE 1-12-9, Toranomon Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
Priority Data:
2007-289997 07.11.2007 JP
2007-289999 07.11.2007 JP
Title (EN) PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, CURED PRODUCT PATTERN, AND PRINTED WIRING BOARD
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE POUVANT PHOTODURCIR, MOTIF DE PRODUIT DURCI ET CARTE DE CÂBLAGE IMPRIMÉ
(JA) 光硬化性樹脂組成物及び硬化物パターン、並びにプリント配線板
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is an alkali-developable photocurable resin composition, which is characterized by containing a carboxylic acid-containing photosensitive resin containing a structure represented by the general formula (I) below, a photopolymerization initiator (B), and a compound (C) containing two or more ethylenically unsaturated groups in a molecule. In the formula (I), R1 represents a hydrogen atom or a methyl group; R2 represents a linear, branched or cyclic alkyl having 2-6 carbon atoms; and R3 represents an acid anhydride residue.
(FR)L'invention porte sur une composition de résine pouvant photodurcir développable en milieu alcalin, qui est caractérisée par le fait qu'elle contient une résine photosensible contenant de l'acide carboxylique contenant une structure représentée par la formule générale (I) ci-après, un initiateur de photopolymérisation (B) et un composé (C) contenant au moins deux groupes insaturés de façon éthylénique dans une molécule. [formule chimique 1] (I) Dans la formule, R1 représente un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle; R2 représente un alkyle linéaire, ramifié ou cyclique ayant 2-6 atomes de carbone et R3 représente un résidu d'anhydre d'acide.
(JA) 一般式(I)で表される構造を含むカルボン酸含有感光性樹脂、(B)光重合開始剤、及び(C)1分子中に2個以上のエチレン性不飽和基を含む化合物を含有することを特徴とするアルカリ現像可能な光硬化性樹脂組成物: [化1]  式中、Rは水素原子もしくはメチル基、Rは炭素数2~6の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル、Rは酸無水物残基を表す。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)