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1. (WO2009060869) NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE NEGATIVE RESIST COMPOSITION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/060869    International Application No.:    PCT/JP2008/070134
Publication Date: 14.05.2009 International Filing Date: 05.11.2008
IPC:
G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01)
Applicants: DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Ichigaya-kagacho 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1628001 (JP) (For All Designated States Except US).
OKUYAMA, Kenichi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KANKE, Satoru [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: OKUYAMA, Kenichi; (JP).
KANKE, Satoru; (JP)
Agent: KISHIMOTO, Tatsuhito; c/o TOKYO CENTRAL PATENT FIRM 3rd Floor, Oak Building Kyoba 16-10, Kyobashi 1-chome Chuou-ku,Tokyo 1040031 (JP)
Priority Data:
2007-287686 05.11.2007 JP
2008-235189 12.09.2008 JP
Title (EN) NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE NEGATIVE RESIST COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSERVE NÉGATIVE ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF EN UTILISANT LA COMPOSITION DE RÉSERVE NÉGATIVE
(JA) ネガ型レジスト組成物、及び当該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a negative resist composition which enables to form a highly sensitive pattern having a good shape without lowering resolution. Also disclosed is a method for forming a pattern using such a negative resist composition. Specifically disclosed is a negative resist composition characterized by containing a calixresorcinarene derivative (A) having a specific structure, an acid generator (B) generating an acid directly or indirectly upon irradiation of an active energy ray having a wavelength of 248 nm or less, and a crosslinking agent (C).
(FR)L'invention concerne une composition de réserve négative qui permet de former un motif à haute sensibilité ayant une bonne forme sans perte de résolution. L'invention décrit également un procédé pour former un motif en utilisant une telle composition de réserve négative. Elle décrit en particulier une composition de réserve négative caractérisée en ce qu'elle contient un dérivé de calixresorcinarène (A) ayant une structure spécifique, un générateur d'acide (B) générant un acide directement ou indirectement lors du rayonnement d'un rayon d'énergie actif ayant une longueur d'onde de 248 nm ou moins, et un agent de réticulation (C).
(JA) 本発明は、解像度を低下させることなく、高感度で形状が良好なパターンを形成できるネガ型レジスト組成物、及び当該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。  特定の構造を有するカリックスレゾルシンアレン誘導体(A)、波長248nm以下の活性エネルギー線を照射することで直接又は間接的に酸を発生する酸発生剤(B)、及び架橋剤(C)を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物により、上記課題を解決した。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)