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1. (WO2009060862) EPOXY GROUP-CONTAINING ORGANOSILOXANE COMPOUND, CURABLE COMPOSITION FOR TRANSFER MATERIAL, AND FINE PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/060862    International Application No.:    PCT/JP2008/070122
Publication Date: 14.05.2009 International Filing Date: 05.11.2008
IPC:
C07F 7/21 (2006.01), C08G 59/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: SHOWA DENKO K.K. [JP/JP]; 13-9, Shibadaimon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058518 (JP) (For All Designated States Except US).
MORINAKA, Katsutoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
ARAI, Yoshikazu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
UCHIDA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
FUJITA, Toshio [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MORINAKA, Katsutoshi; (JP).
ARAI, Yoshikazu; (JP).
UCHIDA, Hiroshi; (JP).
FUJITA, Toshio; (JP)
Agent: SUZUKI, Shunichiro; S.SUZUKI & ASSOCIATES Gotanda Yamazaki Bldg. 6F 13-6, Nishigotanda 7-chome Shinagawa-ku, Tokyo 1410031 (JP)
Priority Data:
2007-289470 07.11.2007 JP
Title (EN) EPOXY GROUP-CONTAINING ORGANOSILOXANE COMPOUND, CURABLE COMPOSITION FOR TRANSFER MATERIAL, AND FINE PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION
(FR) COMPOSÉ ORGANOSILOXANE CONTENANT UN GROUPE ÉPOXY, COMPOSITION DURCISSABLE POUR MATÉRIAU DE TRANSFERT, ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF FIN À L'AIDE DE LA COMPOSITION
(JA) エポキシ基含有オルガノシロキサン化合物、転写材料用硬化性組成物および該組成物を用いた微細パターン形成方法
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a curable composition for transfer materials, which is applicable to a UV nanoimprint process which enables formation of a fine pattern with high throughput, and is sometimes applicable even to a thermal nanoimprint process. This curable composition for transfer materials enables formation of a fine pattern having high selectivity between etching rates of a fluorine gas and an oxygen gas. Specifically disclosed is a curable composition for transfer materials characterized by containing a curable silicon compound which is produced by a hydrosilylation reaction between a silicon compound (A) having an Si-H group and a compound (B) having a curable functional group and a carbon-carbon double bond other than the curable functional group.
(FR)La présente invention concerne une composition durcissable pour matériaux de transfert, qui est applicable à un procédé de nano-impression assistée par UV qui permet la formation d'un motif fin avec un rendement élevé, et qui est parfois même applicable à un procédé de nano-impression thermique. Cette composition durcissable pour matériaux de transfert permet la formation d'un motif fin présentant une sélectivité élevée entre les taux de gravure d'un gaz fluor et d'un gaz oxygène. L'invention concerne spécifiquement une composition durcissable pour matériaux de transfert caractérisée en ce qu'elle contient un composé de silicium durcissable qui est produit par une réaction d'hydrosilylation entre un composé de silicium (A) ayant un groupe Si-H et un composé (B) ayant un groupe fonctionnel durcissable et une double liaison carbone-carbone autre que le groupe fonctionnel durcissable.
(JA) 本発明は、高いスループットで微細パターンを形成することができる工法であるUVナノインプリント法に適用でき、また場合によっては熱ナノインプリント法にも適用でき、しかもフッ素系ガスと酸素ガスとのエッチング速度の選択性が高い微細パターンを形成することができる転写材料用硬化性組成物を提供することを目的とする。  本発明の転写材料用硬化性組成物は、Si-H基を有するケイ素化合物(A)と、硬化性官能基および該硬化性官能基以外の炭素―炭素二重結合を有する化合物(B)とをヒドロシリル化反応させることにより製造される硬化性ケイ素化合物を含むことを特徴としている。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)