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1. (WO2009059817) SPUTTER COATING DEVICE AND COATING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/059817    International Application No.:    PCT/EP2008/058654
Publication Date: 14.05.2009 International Filing Date: 04.07.2008
IPC:
H01J 37/34 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS INC., A CORPORATION OF THE STATE OF DELAWARE [US/US]; 3050 Bowers Avenue, Santa Clara, California 95054 (US) (For All Designated States Except US).
MOELLE, Christoph [DE/DE]; (DE) (For US Only).
LOPP, Andreas [DE/DE]; (DE) (For US Only).
KLOEPPEL, Andreas [DE/DE]; (DE) (For US Only).
STOLLEY, Tobias [DE/DE]; (DE) (For US Only).
LINDENBERG, Ralph [DE/DE]; (DE) (For US Only).
BENDER, Marcus [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: MOELLE, Christoph; (DE).
LOPP, Andreas; (DE).
KLOEPPEL, Andreas; (DE).
STOLLEY, Tobias; (DE).
LINDENBERG, Ralph; (DE).
BENDER, Marcus; (DE)
Agent: LERMER, Christoph; Herzog-Wilhelm-Str. 22, 80331 München (DE)
Priority Data:
07120166.9 07.11.2007 EP
11/936,586 07.11.2007 US
Title (EN) SPUTTER COATING DEVICE AND COATING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE DÉPÔT PAR PULVÉRISATION ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT
Abstract: front page image
(EN)A magnet/target assembly (1) comprises a target (2) consisting of a plurality of (virtual) segments (2.1, 2.2, 2.3, 2.4, 2.5, 2.6) arranged side by side, each of them extending along the longitudinal axis x of the target (2). Each of the plurality of target segments (2.1, 2.2, 2.3, 2.4, 2.5, 2.6) has a magnet system (3.1, 3.2, 3.3, 3.4, 3.5, 3.6) attributed to the respective target segment. In an embodiment of the target/magnet assembly (1) according to the present invention the magnet systems (3.1, 3.2, 3.3, 3.4, 3.5, 3.6) are arranged mutually offset relative to their respective adjacent magnet systems (3.1, 3.2, 3.3, 3.4, 3.5 and 3.6), respectively, while scanning the target segments (2.1, 2.2, 2.3, 2.4, 2.5 and 2.6), respectively. Particularly, the first magnet system (3.1), the third magnet system (3.3) and the fifth magnet system (3.5) are a first group of magnet systems moving parallel and synchronously with each other, and the second magnet system (3.2), the forth magnet systems (3.4) and the sixth magnet system (3.6) are a second group of magnet systems moving parallel and synchronously with each other. The first, third and fifth magnet systems (3.1, 3.3, 3.5) are alternately arranged with the second, forth and sixth magnet systems (3.2, 3.4 and 3.6), respectively, in the lateral direction y of the target (2). The paths of movement of the magnet systems are arranged parallel. The first and second groups of magnet systems (3.1, 3.2, 3.3, 3.4, 3.5, 3.6) are arranged offset in a longitudinal direction x of the target (2), i.e. arranged with a distance d between the groups in the longitudinal direction x of the target (2).
(FR)Un ensemble aimant/cible (1) comprend une cible (2) consistant en une pluralité de segments (virtuels) (2.1, 2.2, 2.3, 2.4, 2.5, 2.6) agencés côte à côte, chacun d'eux s'étendant le long de l'axe longitudinal x de la cible (2). Chacun de la pluralité de segments de cible (2.1, 2.2, 2.3, 2.4, 2.5, 2.6) comporte un système d'aimant (3.1, 3.2, 3.3, 3.4, 3.5, 3.6) attribué au segment de cible respectif. Dans un mode de réalisation de l'ensemble cible/aimant (1) selon la présente invention, les systèmes d'aimant (3.1, 3.2, 3.3, 3.4, 3.5, 3.6) sont agencés mutuellement décalés par rapport à leurs systèmes d'aimant (3.1, 3.2, 3.3, 3.4, 3.5 et 3.6) adjacents respectifs, respectivement, tout en balayant les segments de cible (2.1, 2.2, 2.3, 2.4, 2.5 et 2.6), respectivement. En particulier, le premier système d'aimant (3.1), le troisième système d'aimant (3.3) et le cinquième système d'aimant (3.5) sont un premier groupe de systèmes d'aimant se déplaçant parallèlement et en synchronisation les uns avec les autres, et le deuxième système d'aimant (3.2), le quatrième système d'aimant (3.4) et le sixième système d'aimant (3.6) sont un second groupe de systèmes d'aimant se déplaçant parallèlement et en synchronisation les uns avec les autres. Les premier, troisième et cinquième systèmes d'aimant (3.1, 3.3, 3.5) sont agencés de manière alternée avec les deuxième, quatrième et sixième systèmes d'aimant (3.2, 3.4 et 3.6), respectivement, dans la direction latérale y de la cible (2). Les trajets de mouvement des systèmes d'aimant sont agencés parallèlement les uns aux autres. Les premier et second groupes de systèmes d'aimant (3.1, 3.2, 3.3, 3.4, 3.5, 3.6) sont agencés décalés dans une direction longitudinale x de la cible (2), c'est-à-dire, agencés avec une distance d entre les groupes dans la direction longitudinale x de la cible (2).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)