WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2009059019) METHODS AND SYSTEMS FOR WHITE LIGHT INTERFEROMETRY AND CHARACTERIZATION OF FILMS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/059019    International Application No.:    PCT/US2008/081814
Publication Date: 07.05.2009 International Filing Date: 30.10.2008
IPC:
G01B 9/02 (2006.01), G01N 21/45 (2006.01)
Applicants: GOOD ADVANCE INDUSTRIES (H.K.) LIMITED [CN/CN]; 18 Floor, Kailey Tower, No. 16 Stanley Street, Central Hong Kong, Hong Kong (CN) (For All Designated States Except US).
MOUNTAIN VIEW OPTICAL CONSULTANT CORP. [US/US]; 8158 E. Quartz Ridge Dr, Tucson, Arizona 85715 (US) (For All Designated States Except US).
WAN, Der-Shen [CN/US]; (US) (For US Only)
Inventors: WAN, Der-Shen; (US)
Agent: COLBURN, Heather M.; 1201 Third Avenue, Suite 2200, Seattle, Washington 98101-3045 (US)
Priority Data:
11/928,625 30.10.2007 US
Title (EN) METHODS AND SYSTEMS FOR WHITE LIGHT INTERFEROMETRY AND CHARACTERIZATION OF FILMS
(FR) PROCÉDÉS ET SYSTÈMES POUR UNE INTERFÉROMÉTRIE EN LUMIÈRE BLANCHE ET UNE CARACTÉRISATION DE FILMS
Abstract: front page image
(EN)Methods are provided for estimating a surface profile of a sample in an interferometer having a broad bandwidth light source. The interferometer detects interference pattern intensity data over a series of frames of a relative scan between the sample and a reference surface. Particular methods comprise, for each location (x,y) of interest on the sample: determining an envelope of the detected interference pattern intensity data 15 corresponding the location (x,y) of interest based on amplitudes of the detected interference pattern intensity data; determining a rough estimate Zroughof the surface profile of the sample at the location (x,y) of interest based on the envelope; estimating a phase offset ϑ of the detected intensity data using a curve fitting optimization process to fit the detected intensity data to a broad bandwidth interference model; and refining the rough estimate Zrough of the surface profile using the phase offset ϑ to obtain a fine estimate Zfine of the surface profile of the sample at the location (x,y) of interest, the fine estimate Zfine having improved resolution over the rough estimate Zrough. Similar methods are used for characterizing films applied to substrates.
(FR)L'invention porte sur des procédés pour estimer un profil de surface d'un échantillon dans un interféromètre ayant une source de lumière à large bande passante. L'interféromètre détecte des données d'intensité de motif d'interférence sur une série de trames d'un balayage relatif entre l'échantillon et une surface de référence. Des procédés particuliers comprennent, pour chaque emplacement (x, y) d'intérêt sur l'échantillon les opérations consistant à : déterminer une enveloppe de données d'intensité de motif d'interférence détectées 15 correspondant à l'emplacement (x, y) d'intérêt sur la base des amplitudes des données d'intensité de motif d'interférence détectées; déterminer une estimation grossière Zgrossière du profil de surface de l'échantillon à l'emplacement (x, y) d'intérêt sur la base de l'enveloppe; estimer un déphasage ϑ des données d'intensité détectées à l'aide d'un traitement d'optimisation d'ajustement de courbe pour ajuster les données d'intensité détectées à un modèle d'interférence à bande passante large; et affiner l'estimation Zgrossière du profil de surface à l'aide du déphasage pour obtenir une estimation fine Zfine du profil de surface de l'échantillon à l'emplacement (x, y) d'intérêt, l'estimation fine Zfine ayant une résolution améliorée par rapport à l'estimation grossière Zgrossière. Des procédés similaires sont utilisés pour caractériser des films appliqués à des substrats.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)