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1. (WO2009058501) METHOD OF COMPENSATING FOR THE PHOTOELECTRIC EFFECT IN PULSED, ACCELERATOR-BASED LITHO-DENSITY TOOL
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/058501    International Application No.:    PCT/US2008/078225
Publication Date: 07.05.2009 International Filing Date: 30.09.2008
IPC:
G01V 5/12 (2006.01)
Applicants: SERVICES PETROLIERS SCHLUMBERGER [FR/FR]; 42, rue Saint Dominique, F-75007 Paris (FR) (FR only).
SCHLUMBERGER CANADA LIMITED [CA/CA]; 525 - 3rd Avenue S.W., Calgary, Alberta T2P 0G4 (CA) (CA only).
SCHLUMBERGER HOLDINGS LIMITED [GB/GB]; P.O. Box 71 Craigmuir Chambers Road Town Tortola British Virgin Islands, British (GB) (GB, JP, NL only).
SCHLUMBERGER TECHNOLOGY B.V. [NL/NL]; Parkstraat 83-89, NL-2514JG The Hague (NL) (AL, AM, AU, AZ, BG, BY, CO, CZ, DE, DK, GR, HU, ID, IE, IL, IT, KG, KP, KR, KZ, LT, MD, MX, MY, NO, NZ, OM, PL, RO, RU, SI, SK, TJ, TM, TN, TR, TT, UA, UZ, ZA only).
PRAD RESEARCH AND DEVELOPMENT LTD [GB/GB]; P.O. Box 71 Craigmuir Chambers Road Town Tortola British Virgin Islands, British (GB) (AE, AG, AO, AT, BA, BB, BE, BF, BH, BJ, BR, BW, BZ, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CR, CU, CY, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GA, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GT, GW, HN, HR, IN, IS, KE, KM, KN, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LV, LY, MA, MC, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MZ, NA, NE, NG, NI, PG, PH, PT, RS, SC, SD, SE, SG, SL, SM, SN, SV, SY, SZ, TD, TG, TZ, UG, VC, VN, ZM, ZW only).
ZHOU, Tong [CN/US]; (US) (For US Only).
CHEN, Felix [US/US]; (US) (For US Only).
CASE, Charles, R. [US/US]; (US) (For US Only).
ELLIS, Darwin, V. [US/US]; (US) (For US Only).
ROSCOE, Bradley, Albert [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: ZHOU, Tong; (US).
CHEN, Felix; (US).
CASE, Charles, R.; (US).
ELLIS, Darwin, V.; (US).
ROSCOE, Bradley, Albert; (US)
Agent: MCALEENAN, James; Schlumberger-doll Research, Intellectual Property Law Department, One Hampshire Street, Cambridge, MA 02139 (US)
Priority Data:
11/962,161 21.12.2007 US
Title (EN) METHOD OF COMPENSATING FOR THE PHOTOELECTRIC EFFECT IN PULSED, ACCELERATOR-BASED LITHO-DENSITY TOOL
(FR) PROCÉDÉ D'EXTRACTION DE DENSITÉ DE FORMATION ET PE EN UTILISANT UN OUTIL DE LITHO-DENSITÉ À IMPULSION BASÉ SUR UN ACCÉLÉRATEUR
Abstract: front page image
(EN)A method for a pulsed gamma - gamma density tool to simultaneously compensate for interactions due to the photoelectric effect and density variations caused by standoff enables a more precise determination of bulk formation density. This method includes the steps of providing a source of energetic particles and directing those energetic particles at a formation having a known photoelectric factor and electron density and capturing one or more photons either emitted or deflected from the formation either a first detector or a second detector. The first detector is spaced a first distance from the source, the second detector is spaced a second distance from the detector and a third distance separates the first detector from the second detector. Measuring a first total energy of the photons striking the first detector during a time interval and measuring a second total energy of the photons striking the second detector as a function of the time interval and disposing a first filter between the first detector and the formation effective to cause Pe response to match standoff influence thereby compensating for both effects simultaneously. In addition to the first filter, the required compensation may include a second filter between the second detector and the formation as well as adjustments to the respective first distance, second distance and third distance.
(FR)L'invention concerne un procédé pour un outil de densité gamma-gamma à impulsion permettant de compenser simultanément les interactions dues à l'effet photoélectrique et aux variations de densité provoqués par un arrêt qui permet une détermination plus précise de la densité apparente de formation. Ce procédé comprend les étapes de fourniture d'une source de particules énergétiques et de direction de ces particules énergétiques dans une formation ayant un facteur photoélectrique connu et une densité d'électron connue et la capture d'un ou plusieurs photons émis ou déviés de la formation soit par un premier détecteur, soit par un second détecteur. Le premier détecteur est espacé d'une première distance de la source, le second détecteur est espacé d'une deuxième distance du détecteur et une troisième distance sépare le premier détecteur du second détecteur. Le procédé comprend également la mesure d'une première énergie totale des photons frappant le premier détecteur pendant un intervalle de temps et la mesure d'une seconde énergie totale des photons frappant le second détecteur en fonction de l'intervalle de temps et la disposition d'un premier filtre entre le premier détecteur et la formation efficace pour provoquer une réponse Pe qui correspond à l'influence d'arrêt, compensant ainsi simultanément les deux effets. Outre le premier filtre, la compensation requise peut comprendre un second filtre entre le second détecteur et la formation de même que des ajustements aux première, deuxième et troisième distances respectives.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)