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1. (WO2009057838) APPARATUS FOR SURFACE-TREATING WAFER USING HIGH-FREQUENCY INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2009/057838    International Application No.:    PCT/KR2007/005484
Publication Date: 07.05.2009 International Filing Date: 01.11.2007
IPC:
H01L 21/3065 (2006.01), H05H 1/30 (2006.01)
Applicants: EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD [KR/KR]; 209-3, Chugte-ri, Yangji-meon, Cheoin-gu, Yongin-si, Kyonggi-do 449-824 (KR) (For All Designated States Except US).
UM, Pyung-yong [KR/KR]; (KR) (For US Only)
Inventors: UM, Pyung-yong; (KR)
Agent: KIM, Inhan; P & K International Patent Office 6F., Ilheung Bldg. 1490-25, Seocho-dong , Seocho-gu, Seoul 137-070 (KR)
Priority Data:
Title (EN) APPARATUS FOR SURFACE-TREATING WAFER USING HIGH-FREQUENCY INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA
(FR) APPAREIL POUR TRAITEMENT DE SURFACE DE PLAQUETTE À L'AIDE DE PLASMA INDUIT PAR HAUTE FRÉQUENCE
Abstract: front page image
(EN)Disclosed herein is an apparatus for surface-treating a wafer using high-frequency inductively-coupled plasma, including a process chamber including a plasma generation unit into which a reaction gas is introduced and which generates plasma, and a wafer treatment unit in which any one or more selected from among plasma treatment, thin film formation and etching is performed; and a pressure control unit including a vacuum plate, and a pumping port, a two-stage valve, a turbo pump and an APC valve which are organically connected with the vacuum plate, to control a pressure in the process chamber and a pumping rate.
(FR)L'invention concerne un appareil de traitement de surface d'une plaquette à l'aide de plasma induit par haute fréquence, comprenant une chambre de traitement comportant une unité de génération de plasma dans laquelle un gaz de réaction est introduit et qui génère du plasma, et une unité de traitement de plaquette dans laquelle un ou plusieurs traitements sélectionnés parmi le traitement par plasma, la formation de couches minces et l'attaque chimique sont mis en oeuvre; et une unité de contrôle de pression comprenant une plaque de mise sous vide, ainsi qu'un orifice de pompage, une soupape à deux étages, une turbopompe et une vanne APC qui sont reliés organiquement à la plaque de mise sous vide, pour contrôler la pression dans la chambre de traitement et un débit de la pompe.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)